サムスン電子、NVIDIAの「cuLitho」を採用し、リソグラフィー性能を20倍に向上
サムスン電子は、エヌビディアのcuLithoプラットフォームを使用し、計算リソグラフィーの性能を最大20倍に高めていると、エヌビディアのCFO(最高財務責任者)であるコレット・クレス氏が8月26日(現地時間)の同社第2四半期決算説明会で述べた。GPUで高速化されたこのソフトウェアは、半導体ウェーハ上に微細な回路パターンを転写するためのマスクパターンを正確に計算・補正できる。エヌビディアは、第2四半期の売上高が前年同期比106%増の962億2,000万ドルだったと報告した。また、2028会計年度には売上高が約70%増加すると見込んでいることを明らかにし、AI主導の半導体製造の高速化における同社の地位をさらに強固なものにした。 サムスン電子、リソグラフィー性能を20倍向上させるcuLithoを採用 コレット・クレス氏は、サムスン電子がエヌビディアのcuLithoを活用し、計算リソグラフィーの性能を最大20倍に高めていると説明した。cuLithoは、GPUを使用して露光用マスクパターンの計算と補正を高速化するソフトウェアで、半導体ウェーハ上に微細な回路パターンを正確に転写できるようにする。
LucasBennett·08-27 06:59
