Японская компания разработала технологию производства полупроводников размером 1,4 нм с энергопотреблением в 1/10 от обычного

Компания Dai Nippon Printing (DNP) разработала технологию, позволяющую производить передовые полупроводники с использованием лишь одной десятой потребления электроэнергии. Новый способ производства оборудования, предназначенного для Canon, планируется довести до массового выпуска в 2027 году; он сможет поддерживать выпуск ключевых компонентов для продуктов следующего поколения 1,4 нанометра (1 нанометр — одна миллиардная метра). Есть вероятность существенного снижения производственных затрат на ИИ-полупроводники (AI).

В настоящее время для массового выпуска самых передовых полупроводников необходимо использовать установки для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV) — оборудование, которое производит в мире только ASML Holdings (компания ASML). «Литографический процесс» — нанесение схем на кремниевую пластину (подложку) — составляет 30–50% от общей себестоимости производства полупроводников. Чем точнее схема, тем большее число операций литографии требуется, и тем выше потребление электроэнергии. Стоимость одной установки EUV-литографии составляет около 30 млрд иен, что создает для производителей полупроводников тяжелое инвестиционное бремя.

А оборудование Canon для производства по технологии «нанонапечаток» (Nanoimprint) изготавливает схемы на пластине, используя подход, похожий на проставление печати. DNP разработала шаблон (template) — оригинальную «форму» схем, по точности сравнимую с детально изготовленной печатью; его можно применять для техпроцесса до 1,4 нанометра. Ранее эта технология не позволяла производить такие передовые полупроводники, как 2 нанометра.

Продолжить чтение: нажмите здесь, чтобы перейти на китайский сайт Nikkei.

Японская компания Nikkei (Nikkei Inc.) и Financial Times в ноябре 2015 года объединились в одну медиагруппу. Союз двух газет — японской и британской, которые были основаны еще в XIX веке, — под знаменем «высококачественной и самой мощной экономической журналистики» продвигает сотрудничество по широкому кругу направлений, включая совместные спецвыпуски. На этот раз, как часть этого процесса, между китайскими сайтами обеих газет была реализована взаимная публикация статей.

Посмотреть Оригинал
На этой странице может содержаться сторонний контент, который предоставляется исключительно в информационных целях (не в качестве заявлений/гарантий) и не должен рассматриваться как поддержка взглядов компании Gate или как финансовый или профессиональный совет. Подробности смотрите в разделе «Отказ от ответственности» .
  • Награда
  • комментарий
  • Репост
  • Поделиться
комментарий
Добавить комментарий
Добавить комментарий
Нет комментариев
  • Закрепить