Японская компания разработала технологию производства полупроводников размером 1,4 нанометра с использованием всего 1/10 энергии

Большая Японская Типография (DNP) разработала технологию производства передовых полупроводников с расходом энергии в одну десятую от обычного. Новое оборудование для производства, предназначенное для Canon, начнет массовое производство в 2027 году и сможет поддерживать компоненты для нового поколения продукции с технологией 1,4 нм (один нанометр — одна миллиардная метра). Возможен значительный спад стоимости производства AI-микросхем.

В настоящее время для массового производства самых передовых полупроводников необходимо использовать экстремально ультрафиолетовые (EUV) литографические машины, которые производит только голландская компания ASML Holdings. Процесс “литографирования” схем на кремнии (подложке) составляет от 30% до 50% от общей стоимости производства полупроводников. Чем тоньше схема, тем больше требуется этапов литографирования, и тем выше расход энергии. Стоимость одной EUV-литографической машины около 30 миллиардов йен, что создает значительную финансовую нагрузку для производителей полупроводников.

В то же время, оборудование Canon для наноимпринта (Nanoimprint) использует метод, похожий на штамповку, для создания схем на кремнии. DNP разработала шаблон (template), аналогичный тонкому штампу, который может использоваться для производства с технологией 1,4 нм. Ранее эта технология не могла поддерживать производство таких передовых полупроводников, как 2 нм.

Чтобы продолжить чтение, перейдите сюда, на сайт Nikkei Chinese.

Японское экономическое агентство и Financial Times объединились в ноябре 2015 года в один медиа-групп. Союз двух газет, основанных в 19 веке в Японии и Великобритании, действует под лозунгом “высокое качество и мощное экономическое освещение”, и способствует совместной работе в различных областях, включая специальные выпуски. В рамках этого сотрудничества статьи между их китайскими сайтами теперь обмениваются.