Lam ResearchとJSR/Inpriaが次世代半導体材料とEUVパターニングで提携

AIおよび高性能コンピューティングチップの生産需要の高まりに対応するため、半導体業界の大手2社が非独占的なクロスライセンスおよび協力契約を正式に締結しました。このパートナーシップは、ウェーハ製造装置で知られるLam Research Corp. (Nasdaq: LRCX)と、高度な金属酸化物フォトレジストソリューションを提供するJSR株式会社およびその子会社Inpria Corporationを結びつけます。

材料科学と装置革新の橋渡し

この戦略的提携は、JSR/Inpriaの半導体材料に関する専門知識と、Lamの堆積、エッチング、パターン形成技術の熟練度を調和させることを目的としています。この組み合わせは、半導体業界の最も緊急の課題の一つである、AIアプリケーションへの移行に伴う生産規模拡大を効率的に実現するためのものです。

Inpria Corporationの金属酸化物レジストソリューションは、次世代リソグラフィシステムにとって重要な進歩を示しています。これに、Lamの独自のAetherドライレジスト装置—複雑なチップパターンの製造を簡素化する革新的技術—を組み合わせることで、最先端のプロセッサを開発する企業の製造コストと複雑さを大幅に削減できる可能性があります。

技術ロードマップと革新分野

この協力には、いくつかの先進的な開発イニシアチブが含まれます。

EUVリソグラフィの進展:Inpriaのレジスト配合とLamのパターン形成技術を活用した、低NAおよび高NAの極紫外線パターン形成に関する共同研究。高NA EUVは、現在の能力を超える半導体ノードのスケーリングにとって重要な道筋です。

高精度加工用材料:次世代パターン形成に適した金属酸化物レジストや特殊フィルムの研究開発。これらは、AIプロセッサやデータセンター用ハードウェアに必要な高密度回路の製造に不可欠です。

高度な堆積およびエッチングソリューション:JSRが最近買収した山中フテック株式会社の技術を活用し、原子層堆積やエッチングの新しい前駆体材料とプロセスを調査します。この探求は、パターン形成を超え、現代のチップ製造を定義する基本的な材料プロセスの革新範囲を拡大します。

戦略的意義と市場背景

カリフォルニア州フリーモントに本拠を置くFORTUNE 500企業のLam Researchは、世界中の半導体メーカーにとって基盤的なサプライヤーとしての地位を維持しています。同社の装置は、今日生産されているほぼすべての先進チップに搭載されています。JSR/Inpriaのような材料専門企業とのパートナーシップ拡大により、Lamはますます複雑化する製造課題の解決に向けたエコシステムアプローチを強化しています。

JSR株式会社は、電子材料部門を中心に、ロジックおよびメモリチップの製造に必要なフォトレジスト、工程材料、特殊ソリューションを提供する総合的な技術材料供給企業です。2021年のInpria買収により、JSRはEUV金属酸化物レジストの開発の最前線に立ち、より高解像度のパターン形成を目指す業界の動きにおいて、その価値はますます高まっています。

訴訟和解

契約の一環として、InpriaとLamは、デラウェア州地区裁判所の訴訟案件Inpria v. Lam Research (Case 1:22cv01359)および関連するインターパーティレビュー手続きをすべて取り下げることに合意しました。この解決は、競争から協力へのシフトを示しています。

業界リーダーの見解

「JSRとInpriaの材料技術と、Lamの堆積、エッチング、ドライレジスト技術の強みを組み合わせることで、EUVリソグラフィ—特に高NA—の解決策を加速し、新しいAI時代に向けて効率的にスケールできるよう支援します」と、JSR株式会社の上級役員である木村徹氏は述べ、最先端材料の推進に対する同社のコミットメントを強調しました。

Lam Researchの最高技術責任者兼サステナビリティ責任者のVahid Vahediは、パートナーシップがLamの確立された原子層堆積およびエッチング能力を補完し、半導体の複雑さが増す中で革新を加速させることを可能にしていると指摘しました。

このパートナーシップは、チップメーカーと装置サプライヤーが連携して、AI駆動のコンピューティング環境における半導体生産のスケーリングに伴う根本的な物理的・材料科学的課題を克服しようとする、より広範な業界の動向を反映しています。

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