Японська компанія розробила технологію виробництва напівпровідників розміром 1,4 нанометра з 1/10 енергії

Велике друкарське підприємство ДНП (DNP) розробило технологію, яка дозволяє виробляти передові напівпровідники із споживанням електроенергії в десять разів менше. Новий спосіб виробництва пристроїв для Canon, запланований на 2027 рік, дозволить масово виробляти ключові компоненти для нової генерації продуктів із технологією 1,4 нанометра (один нанометр — одна мільярдна частка метра). Існує ймовірність значного зниження вартості виробництва AI-напівпровідників.

На даний момент для масового виробництва найсучасніших напівпровідників необхідно використовувати ексклюзивно вироблені голландською компанією ASML Holdings екстремальні ультрафіолетові (EUV) фотолітографічні машини. Процес “фотолітографії” — нанесення схем на кремнієві пластини — становить від 30 до 50% загальної вартості виробництва напівпровідників. Чим тонші схеми, тим більше потрібно процесів фотолітографії, а відповідно — і більше енергії. Вартість однієї EUV-фотолітографічної машини становить близько 30 мільярдів ієн, що створює значне фінансове навантаження для виробників напівпровідників.

У той же час пристрій Canon “наноімпринт” використовує метод, схожий на штампування, для створення схем на кремнієвих пластинах. DNP розробило “шаблон” (template), який є аналогом тонкого штампу і може використовуватися для виробництва з технологією 1,4 нанометра. Раніше ця технологія не могла підтримувати виробництво передових напівпровідників з технологією 2 нанометри та інших.

Щоб дізнатися більше, натисніть тут, щоб перейти на сайт Nikkei Chinese.

З 2015 року компанія Nikkei та Financial Times об’єдналися в один медіагрупу. Союз двох газет, заснованих у XIX столітті — японської та британської, — прагне просувати спільні спецпроєкти та співпрацю у широкому спектрі галузей під гаслом “висока якість та найсильніша економічна журналістика”. У рамках цього об’єднання між їхніми китайськомовними сайтами налагоджено обмін статтями.