Японська компанія розробила технологію виробництва напівпровідників розміром 1,4 нанометра з 1/10 енергії

Даймонд Діпінк (DNP) розробила технологію виробництва передових напівпровідників із споживанням електроенергії в десять разів менше. Виробничий пристрій нової моделі для Canon, який буде запущено у масове виробництво у 2027 році, підтримуватиме ключові компоненти для нової генерації продуктів із технологією 1,4 нм (1 нм — одна мільярдна частка метра). Виробництво напівпровідників із штучним інтелектом (AI) може суттєво знизити витрати.

На даний момент для масового виробництва найсучасніших напівпровідників необхідно використовувати ексклюзивні ультрафіолетові (EUV) фотолітографічні машини, вироблені лише компанією ASML Holdings із Нідерландів. Процес “фотолітографії” — нанесення схем на кремнієві пластини — становить від 30 до 50% загальної вартості виробництва напівпровідників. Чим тонші схеми, тим більше циклів фотолітографії потрібно, і тим більше витрачається електроенергії. Одна EUV-фотолітографічна машина коштує приблизно 30 мільярдів ієн, що створює значне фінансове навантаження для виробників напівпровідників.

У той час як пристрій Canon “Nanoimprint” використовує метод, схожий на штампування, для створення схем на кремнієвих пластинах. DNP розробила “шаблон” (template), який є аналогом тонкого штампа для нанесення схем, і здатний підтримувати технологію до 1,4 нм. Раніше ця технологія не могла підтримувати виробництво напівпровідників із передовими технологіями, такими як 2 нм.

Для продовження читання натисніть тут, щоб перейти на сайт Nikkei Chinese.

З листопада 2015 року Японська економічна газета (Nikkei) та Financial Times об’єдналися у одну медіагрупу. Альянс двох газет, заснованих у XIX столітті у Японії та Великобританії відповідно, прагне просувати співпрацю у широкому спектрі сфер під гаслом “висока якість та найсильніша економічна журналістика”. У рамках цього співробітництва між їхніми китайськомовними вебсайтами налагоджено обмін статтями.