Японська компанія розробила технологію виробництва напівпровідників розміром 1,4 нанометра з 1/10 енергії

Дай-Джіпон Інсюс (DNP) розробила технологію виробництва передових напівпровідників із споживанням електроенергії в десять разів менше. Новий спосіб виробництва пристроїв для Canon, що буде запущений у масове виробництво у 2027 році, дозволить створювати основні компоненти для нових поколінь продуктів із технологією 1,4 нанометра (один нанометр — одна мільярдна частка метра). Існує ймовірність значного зниження вартості виробництва AI-напівпровідників.

На даний момент для масового виробництва найсучасніших напівпровідників необхідно використовувати ексклюзивний ультрафіолетовий (EUV) фотолітографічний апарат, який виробляє лише компанія ASML Holdings із Нідерландів. Процес “фотолітографії” — нанесення схем на кремнієві пластини — становить від 30 до 50% загальної вартості виробництва напівпровідників. Чим тонші схеми, тим більше потрібно наносити шарів і, відповідно, витрачати електроенергії. Вартість одного EUV-фотолітографічного апарату становить близько 30 мільярдів ієн, що створює значне фінансове навантаження для виробників напівпровідників.

Водночас пристрій Canon “Nanoimprint” використовує метод, схожий на штампування, для створення схем на кремнієвих пластинах. DNP розробила “шаблон” (template), який є аналогом тонкого штампа і може використовуватися для технології 1,4 нанометра. Раніше ця технологія не могла підтримувати виробництво передових напівпровідників із технологією 2 нанометри та більшою.

Щоб дізнатися більше, натисніть тут і перейдіть на сайт Nikkei Chinese.

У листопаді 2015 року Японське економічне агентство та Financial Times об’єдналися в один медіагрупу. Союз двох газет, заснованих у XIX столітті — японської та британської, — прагне просувати “високоякісне та найпотужніше економічне новиння”, співпрацюючи у широкому спектрі проектів. У рамках цього співробітництва між їхніми китайськомовними сайтами налагоджено обмін статтями.