三星電子は、平沢セミコンダクター・プロダクション拠点P5半導体工場クラスターの最初の段階であるPH1向けに、70台余りのリソグラフィ装置を発注し、この段階の2027年の稼働に向けた準備を整えた。平沢P5 PH1に必要なこれらのリソグラフィ装置はASMLとキヤノンから調達されており、そのうち約20台はASMLのEUV露光システムである。P5 PH1は1c nmプロセスのDRAM生産に用いられ、汎用メモリとHBMの両方を同時に製造する。（科創板日報）
報道によれば、サムスン電子は平沢P5ウエハー工場のPH1段階で、70台余りの露光装置発注を行ったとされています。
三星電子は、平沢セミコンダクター・プロダクション拠点P5半導体工場クラスターの最初の段階であるPH1向けに、70台余りのリソグラフィ装置を発注し、この段階の2027年の稼働に向けた準備を整えた。平沢P5 PH1に必要なこれらのリソグラフィ装置はASMLとキヤノンから調達されており、そのうち約20台はASMLのEUV露光システムである。P5 PH1は1c nmプロセスのDRAM生産に用いられ、汎用メモリとHBMの両方を同時に製造する。（科創板日報）