ASMLの株価が下落、提案された米国の輸出規制がすでに脆弱な中国市場を狙う

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オナザン・ラー | ナー写真 | ゲッティイメージズ

ASMLの株価は、米国の議員らが先週、中国の追加の半導体製造ツールを制限する可能性のあるさらなる措置を提案したことを受けて、火曜日に下落しました。これにより、オランダの半導体大手の同国向けの、すでに脆弱な売上に影響する恐れがあります。

オランダでのASMLの株価は、米東部時間の午前6時11分ごろにかけて約2.6%下落し、約6:11 a.m. ETでした。

木曜日、超党派の議員グループが、ハードウェアにおける技術管理の多国間整合(MATCH)法案を提出しました。これは、中国を半導体製造ツールから切り離し、同国の最も重要な半導体企業を狙い撃ちすることを目的としています。

「米国は中国の半導体の内製化を遅らせるために広範な輸出管理を課してきましたが、米国の同盟国はこれらの措置を十分に同じ水準で対応できていません。この不整合によって、重要なギャップが生じ、それを中国が引き続き活用し続けています」と、4月2日に公開された声明で、法案を主導した、ワシントン州選出の共和党議員マイケル・バウムガルトナーの事務所は述べました。

CNBCがコメントを求めて問い合わせた際、ASMLは直ちに対応できませんでした。

ASMLへの影響は?

米国はここ数年で、中国に対してさまざまな半導体輸出規制を課してきました。

その多くは、最も先進的な半導体技術に焦点が当てられています。ASMLは、地球上で最も先進的なチップの製造に必要な極端紫外線(EUV)リソグラフィ装置を製造しています。

ASMLはこれらの装置を、中国には一度も輸出していません。

オランダの同社は、深紫外線(DUV)リソグラフィ装置も製造しています。DUVリソグラフィ装置はより高度ではなく、メモリチップのような、ほかの種類の半導体の製造に用いられます。これらは、ノートパソコンから携帯電話まで、あらゆるものに搭載されています。

ASMLのDUV装置の一部は、オランダの輸出許可の対象となっています。

MATCH法が成立すれば、ASMLのDUVリソグラフィ装置でさえも禁止されることになります。これらは、より高度ではない半導体の製造に使うことができ、これまで中国最大のチップメーカーは購入できていました。

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中国のチップ部門を抑制するための最新の米国提案の背景は何か

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1月、ASMLは、今年の総売上において中国が約20%を占める見通しで、2025年の33%から減少すると述べました。これは、新たに提案された米国の追加規制が出る前のことでした。

制限が発効すれば、すでに落ち込んでいるオランダ企業の対中売上に圧力がかかる可能性があります。

「法案は初期段階で、その結果は不確実ですが、地政学的な重しを生み出します。この段階では、すべてのDUVツールが潜在的に懸念対象になるのか、それとも一部のDUV浸漬ツールに対する現在の制限が……延長されるのかは不明なままです」と、ODDO BHFの株式リサーチ責任者ステファヌ・ウリは、火曜日のメモで述べました。

仮に広範なDUV禁止が行われれば、ASMLの業績に対して「ある程度のボラティリティ」を生み、「(規制が実施される前に)一部の短期の受注を押し上げる可能性はあるものの、中期の業績に影響する」だろう、とウリは語りました。

「株価の反応は、米国の議会から出てくる提案が、ASMLにかなり重大な影響を与え得ることを示しています」と、キルター・チェビオットのテクノロジー・リサーチ責任者ベン・バリンジャーはCNBCに語りました。

「この法案は、同社のリソグラフィ装置の古いバージョンに影響します。それらは総売上の約10%〜15%を占めます。その内訳では、中国が約50%なので、規模としては約5%程度の大きな打撃になりますが、時間の経過とともに減価していく可能性が高いものです。」

バリンジャーもウリも、提案はいずれも初期段階であり、なお米国の立法プロセスを通過する必要があると指摘しました。

中国の半導体セクターはさらなる混乱に直面

CNBCに対してアナリストが語ったところによると、ここ数年のワシントンによるさまざまな制限は、実際には中国の国内半導体産業を押し上げるのに役立っており、複数の企業が昨年、過去最高の売上高を報告しています。

同国は、ハイバンド幅メモリのように、遮断されている技術の一部について、Nvidiaの競合他社に対抗できる代替策を見つけることに成功しています。

しかし、中国最大のチップメーカーであるSemiconductor Manufacturing International Co.(SMIC)やHua Hongなどは、より高度ではないチップを作るために、依然としてASMLのDUVツールに依存しています。

EUVについてはASMLの国内代替はなく、世界的にもDUVリソグラフィ装置を置き換えられる選択肢は非常に限られています。

米国の提案が「承認(グリーンライト)」を得れば、ホーリは「中国の半導体製造能力を混乱させることができます。というのも、中国は今日、完全にASMLのツールに依存しているからです」と述べました。

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中国最大のチップ銘柄が過去最高の売上高を報告—その背景はこちら

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