3月31日の報道によると、国家知識産権局の情報によれば、北京市金橙子科技股份有限公司は「電子機器のレーザー刻印制御システム操作グラフィカルユーザインタフェース（一）」という名称の特許を出願し、特許の付与公告番号はCN309876904S、付与公告日は2026年3月27日となっている。出願番号はCN202530091585.1、出願公開日（公告日）は2026年3月27日、出願日（申請日）は2025年2月28日、発明者は邱勇、特許代理機構は蘇州汇诚汇智特許代理事務所（普通合伙）、特許代理師は顧品荧、分類番号は14-04(15)。特許の要約によると、1.本意匠の製品の名称：電子機器のレーザー刻印制御システム操作グラフィカルユーザインタフェース（一）。2.本意匠の製品の用途：電子機器のために使用される。3.本意匠の製品のデザイン要点：グラフィカルユーザインタフェースにある。4.最もデザイン要点を表す図または写真：図1 主視図。5.指定する図1を基本デザインとする。6.その他説明が必要な状況 その他説明：図1 主視図は操作ソフトのメイン画面として表示される；図1 インタフェース変化状態図1は、図1 主視図において「ファイル」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図2は、図1 インタフェース変化状態図1において「システムパラメータ」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図3は、図1 インタフェース変化状態図2において「カラー」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図4は、図1 インタフェース変化状態図3において「ワークスペース」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図5は、図1 インタフェース変化状態図4において「自動バックアップ」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図6は、図1 インタフェース変化状態図5において「移動回転」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図7は、図1 インタフェース変化状態図6において「プラグインマネージャ」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図8は、図1 インタフェース変化状態図7において「ユーザーマネージャ」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図9は、図1 インタフェース変化状態図8において「language」を選択した後に表示される変化状態図；図2 主視図は操作ソフトのメイン画面として表示される；図2 インタフェース変化状態図1は、図2 主視図において「編集」を選択した後に表示される変化状態図；図2 インタフェース変化状態図2は、図2 インタフェース変化状態図1において「フィル」を選択した後に表示される変化状態図；図3 主視図は操作ソフトのメイン画面である；図3 インタフェース変化状態図1は、図3 主視図において「描画」を選択した後に表示される変化状態図；図3 インタフェース変化状態図2は、図3 インタフェース変化状態図1において「らせん線」を選択した後に表示される変化状態図；図4 主視図は操作ソフトのメイン画面；図4 インタフェース変化状態図1は、図4 主視図において「変更」を選択した後に表示される変化状態図；図4 インタフェース変化状態図2は、図4 インタフェース変化状態図1において「曲線編集」「自動接続」を選択した後に表示される変化状態図；図4 インタフェース変化状態図3は、図4 インタフェース変化状態図2において「交差点を除去」を選択した後に表示される変化状態図；図5 主視図は操作ソフトのメイン画面；図5 インタフェース変化状態図1は、図5 主視図において「レーザー」を選択した後に表示される変化状態図；図5 インタフェース変化状態図2は、図5 インタフェース変化状態図1において「回転角刻印」を選択した後に表示される変化状態図；図5 インタフェース変化状態図3は、図5 インタフェース変化状態図2において「パラメータ（F3）」を選択した後に表示される変化状態図；図6 主視図は操作ソフトのメイン画面；図6 インタフェース変化状態図1は、図6 主視図において下方に「パラメータ（F3）」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図2は、図6 インタフェース変化状態図1において「パスワード」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図3は、図6 インタフェース変化状態図2において「レーザー制御」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図4は、図6 インタフェース変化状態図3において「パワーマッピング」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図5は、図6 インタフェース変化状態図4において「確定」をクリックし、その後「周波数マッピング」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図6は、図6 インタフェース変化状態図5において「確定」をクリックし、その後「テストレーザー」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図7は、図6 インタフェース変化状態図6において「確定」をクリックし、その後「ポート」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図8は、図6 インタフェース変化状態図7において「その他」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図9は、図6 インタフェース変化状態図8において「飛行刻印」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図10は、図6 インタフェース変化状態図9において「確定」をクリックし、その後「赤色光指示」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図11は、図6 インタフェース変化状態図10において「確定」をクリックし、その後「ハードウェア情報」を選択した後に表示される変化状態図；図7 主視図は操作ソフトのメイン画面；図7 インタフェース変化状態図1は、図7 主視図において「オブジェクトリスト」を選択しテキストを入力した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図2は、図7 インタフェース変化状態図1において「確定」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図3は、図7 インタフェース変化状態図2において左側で「有効変数テキスト」「追加」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図4は、図7 インタフェース変化状態図3において「シリアル番号」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図5は、図7 インタフェース変化状態図4において「日付」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図6は、図7 インタフェース変化状態図5において「時間」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図7は、図7 インタフェース変化状態図6において「ネットワーク通信」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図8は、図7 インタフェース変化状態図7において「シリアル通信」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図9は、図7 インタフェース変化状態図8において「ファイル」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図10は、図7 インタフェース変化状態図9において「キーボード」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図11は、図7 インタフェース変化状態図10において「SQLデータベース」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図12は、図7 インタフェース変化状態図11において左側下方で「詳細」を選択した後に表示される変化状態図。金橙子は2004年1月14日に設立され、2022年10月26日に上海証券取引所に上場し、本社所在地は北京市にある。事務所住所も北京市である。同社は国内有数のレーザー加工設備の運動制御システム提供業者であり、技術力が強く、製品はレーザー加工分野に広く応用されている。金橙子の主な事業は、レーザー加工設備の運動制御システムの研究開発および販売であり、さまざまなレーザー加工シーンに対して総合的なソリューションおよび技術サービスを提供する。申万業界区分は「コンピュータ - ソフトウェア開発 - 垂直アプリケーションソフト」であり、予盈予増、半導体、TMTなどのコンセプトのセクターに関わっている。2025年、金橙子の売上高は2.53億元で、業界22社のうち21位に位置し、業界1位の德赛西威の325.57億元および2位の天源迪科の93.81億元を大きく下回っている。業界平均は37.13億元、中間値（メディアン）は10.58億元。その主力事業のうち、レーザー加工制御システムの収入は1.83億元で72.10%を占める；レーザーシステム統合のハードウェアは4512.32万元で17.81%；レーザー精密加工設備は2342.21万元で9.24%；その他（補足）は216.27万元で0.85%である。純利益に関しては、2025年が3587.36万元で、業界ランキングは16/22であり、業界1位の同花順の32.05億元および2位の德赛西威の24.73億元との格差が明確である。業界平均は4.03億元、中間値（メディアン）は7050.55万元。北京市金橙子科技股份有限公司の最近の特許状況は以下のとおり：| 番号 | 特許名称 | 特許種類 | 法的ステータス | 出願番号 | 出願日 | 公開（公告）番号 | 公開（公告）日 | 発明者 || --- | --- | --- | --- | --- | --- | --- | --- | --- || 1 | 超高抵抗の抵抗調整機向けの調整可能な直流精密高圧基準源システム | 発明特許 | 実体審査の有効化、公開 | CN202511531405.2 | 2025-10-24 | CN121300575A | 2026-01-09 | 張東輝、趙立紅 || 2 | 複数の装置におけるビッグデータのコンテンツ最適化処理方法 | 発明特許 | 許可（付与） | CN202511494597.4 | 2025-10-20 | CN120962151B | 2026-02-03 | 陳華、趙立紅、呂文杰 || 3 | レーザー制御カードのオフライン刻印シリアル番号の方法 | 発明特許 | 許可（付与） | CN202511332004.4 | 2025-09-18 | CN120848380B | 2026-02-10 | 陳華、張喜梅 || 4 | 両面レーザー加工方法 | 発明特許 | 許可、公開 | CN202511141738.4 | 2025-08-15 | CN120619555B | 2025-10-24 | 靳世偉、趙立紅 || 5 | フライング光路の歪み補正方法とレーザー装置 | 発明特許 | 許可、公開 | CN202510776680.4 | 2025-06-11 | CN120293494B | 2025-09-16 | 王文娟、趙立紅、温立飛 || 6 | フライングビジョンレーザー加工方法 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202510570505.X | 2025-05-06 | CN120085612B | 2025-07-22 | 張旺 || 7 | レーザー加熱加工方法 | 発明特許 | 発明特許出願の公開後の棄却、実体審査の有効化、公開 | CN202510413075.0 | 2025-04-03 | CN119910296A | 2025-05-02 | 靳世偉 || 8 | マルチコアプロセッサシステム | 発明特許 | 発明特許出願の公開後の棄却、実体審査の有効化、公開 | CN202510273267.6 | 2025-03-10 | CN119782220A | 2025-04-08 | 李利霞、江帆 || 9 | 電子機器のレーザー刻印制御システム操作グラフィカルユーザインタフェース（一） | 意匠特許 | 許可（付与） | CN202530091585.1 | 2025-02-28 | CN309876904S | 2026-03-27 | 邱勇 || 10 | 電子機器のレーザー刻印制御システム操作グラフィカルユーザインタフェース（二） | 意匠特許 | 許可（付与） | CN202530091583.2 | 2025-02-28 | CN309876903S | 2026-03-27 | 邱勇 || 11 | 液体レンズの動的ズームに基づくレーザー加工方法 | 発明特許 | 発明特許出願の公開後の棄却、実体審査の有効化、公開 | CN202510220082.9 | 2025-02-27 | CN119681420A | 2025-03-25 | 靳世偉、張喜梅 || 12 | 回転体表面のレーザー加工方法 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202510169504.4 | 2025-02-17 | CN119609346B | 2025-05-02 | 靳世偉、劉龍涛、呂文杰、趙峰 || 13 | レーザー加工の表示制御インタフェース装置 | 発明特許 | 実体審査の有効化、公開 | CN202510065488.4 | 2025-01-16 | CN119473204A | 2025-02-18 | 張旺、王文娟 || 14 | 電気デジタルデータ処理に基づく仮想ソフトキーボード拡張システムおよび方法 | 発明特許 | 発明特許出願の公開後の棄却、実体審査の有効化、公開 | CN202411932748.5 | 2024-12-26 | CN119356592A | 2025-01-24 | 陳華、張喜梅 || 15 | 連続運動モード下での大充填ファイルの最適化加工方法 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202411897309.5 | 2024-12-23 | CN119356212B | 2025-04-04 | 陳華、張喜梅 || 16 | 複数速度生産ラインに基づく設備加工方法およびシステム | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、実体審査の有効化、公開 | CN202411824885.7 | 2024-12-12 | CN119282412B | 2025-03-04 | 陳華、張喜梅 || 17 | レーザー識別用の文字情報を大量かつ迅速に作成する方法 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、実体審査の有効化、公開 | CN202411801179.0 | 2024-12-09 | CN119294358B | 2025-02-28 | 陳華、張喜梅 || 18 | 連続運動で寸法制限のない計測具加工方法 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202411698694.0 | 2024-11-26 | CN119175466B | 2025-03-25 | 陳華、張喜梅 || 19 | 固定化するボードカードを容易にする方法、システムおよび記憶媒体 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202411577756.2 | 2024-11-07 | CN119066722B | 2025-01-24 | 李利霞、王文娟、江帆 || 20 | 環状模様の交差充填方法および記憶媒体 | 発明特許 | 許可、公開 | CN202411087368.6 | 2024-08-09 | CN118616910B | 2024-10-25 | 谷恒、王文娟 || 21 | マルチ振動ミラー（多振镜头）同期加工方法 | 発明特許 | 許可、公開 | CN202411041885.X | 2024-07-31 | CN118559188B | 2024-10-08 | 靳世偉、王文娟 || 22 | 門型フライスレーザー切断機のビーム | 実用新案 | 許可（付与） | CN202421153306.6 | 2024-05-24 | CN222536624U | 2025-02-28 | 崔徳永 || 23 | 多軸連動回転レーザー加工方法および制御装置 | 発明特許 | 許可、公開 | CN202410607506.2 | 2024-05-16 | CN118237734B | 2024-09-20 | 靳世偉 || 24 | 運動速度のフィードバックに基づくジッタ溶接方法および制御装置 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202410190338.1 | 2024-02-21 | CN117733343B | 2024-05-03 | 靳世偉 || 25 | 目視プレビューによるガイドに基づくレーザー加工方法および制御装置 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202410119776.9 | 2024-01-29 | CN117644294B | 2024-05-03 | 靳世偉 || 26 | 適応的な充填およびその充填線の並べ替え加工方法、装置、記憶媒体 | 発明特許 | 発明特許出願の公開後の棄却、実体審査の有効化、公開 | CN202410076777.X | 2024-01-19 | CN117610889A | 2024-02-27 | 谷恒、温立飛、江帆、呂文杰 || 27 | レーザー加工方法および装置 | 発明特許 | 発明特許出願の公開後の棄却、実体審査の有効化、公開 | CN202311675920.9 | 2023-12-08 | CN117359092A | 2024-01-09 | 靳世偉 || 28 | 連続回転ディスクの運動に基づくレーザーベクタ（振動）ミラー加工装置、方法および媒体 | 発明特許 | 発明特許出願の公開後の棄却、実体審査の有効化、公開 | CN202311429495.5 | 2023-10-31 | CN117161549A | 2023-12-05 | 温立飛、呂文杰 || 29 | 環状充填に基づく充填線の加工順序付け方法、装置および記憶媒体 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202311359826.2 | 2023-10-20 | CN117291395B | 2024-01-26 | 谷恒、温立飛、江帆、呂文杰 || 30 | レーザー加工の制御方法および制御システム | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202311218223.0 | 2023-09-21 | CN116974243B | 2023-11-28 | 呂文杰 || 31 | 円筒形バッテリーのレーザー加工設備および方法 | 発明特許 | 許可、公開 | CN202310823460.3 | 2023-07-06 | CN116532788B | 2023-09-01 | 靳世偉、呂文杰 || 32 | レーザー加工方法、制御装置、制御設備および記憶媒体 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202310523786.4 | 2023-05-11 | CN116275553B | 2023-08-08 | 靳世偉、呂文杰 || 33 | 機能アップグレードに基づくレーザー装置および振動ミラーデータ処理システム、方法および媒体 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202310193739.8 | 2023-03-03 | CN115890009B | 2023-05-12 | 韓良煜、張喜梅 || 34 | レーザー装置制御インタフェースの適応方法、適応装置および格納可能媒体 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202310193878.0 | 2023-03-03 | CN115905070B | 2023-07-04 | 韓良煜、張喜梅 || 35 | レーザービーム焦点の自動センタリング校正方法を実現する | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202310129844.5 | 2023-02-17 | CN115815791B | 2023-04-21 | 韓良煜、張喜梅 || 36 | レーザー加工方法 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202310117330.8 | 2023-02-09 | CN115990716B | 2025-03-14 | 韓良煜、張喜梅 || 37 | おもちゃ（金橙子フィギュア） | 意匠特許 | 許可（付与） | CN202230681638.1 | 2022-10-17 | CN307812327S | 2023-01-24 | 張悦、王文娟 || 38 | 適応的な振動ミラー制御信号インタフェースの方法、システムおよび記憶媒体 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202210857881.3 | 2022-07-21 | CN115086454B | 2022-12-09 | 韓良煜、陳華 || 39 | 振動ミラー制御信号データと同期トリガーの分離方法、システムおよび記憶媒体 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202210857879.6 | 2022-07-21 | CN115085896B | 2022-12-09 | 韓良煜、陳華 || 40 | 1つのアイデンティティ識別コードUUID生成方法、システム、記憶媒体および電子機器 | 発明特許 | 発明特許出願の公開後の棄却、実体審査の有効化、公開 | CN202210642160.0 | 2022-06-08 | CN114943205A | 2022-08-26 | 韓良煜、張喜梅 || 41 | ハッシュテーブルインデックスに基づく鍵検索方法および計算機可読記憶媒体 | 発明特許 | 許可、公開 | CN202210582434.1 | 2022-05-26 | CN114745118B | 2024-07-02 | 韓良煜、張喜梅 || 42 | 高速レーザースキャン振動ミラー | 発明特許 | 実体審査の有効化、公開 | CN202210511609.X | 2022-05-12 | CN114700619A | 2022-07-05 | 靳世偉、陳華 || 43 | レーザープロジェクション補助線に基づく板材輪郭の視覚抽出方法、システムおよび読取可能な記憶媒体 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202210317967.7 | 2022-03-29 | CN114419042B | 2022-08-05 | 韓良煜、王文娟 || 44 | 一つの組立ライン向け大量レーザーマーキング装置 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202210293092.1 | 2022-03-24 | CN114378447B | 2022-06-24 | 靳世偉、陳華 || 45 | プラットフォームの運動接線角度に基づくレーザー溶接継手の動的軌跡生成方法 | 発明特許 | 発明特許出願の公開後の棄却、実体審査の有効化、公開 | CN202210277186.X | 2022-03-21 | CN114417535A | 2022-04-29 | 韓良煜、王文娟 || 46 | パルス符号化計測に基づく通信ボーレート検出およびアドレス割当方法 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202210251518.7 | 2022-03-15 | CN114338476B | 2022-06-03 | 韓良煜、温立飛 || 47 | 3次元の複雑な表面に向けたレーザーマーキング方法およびシステム | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202210249963.X | 2022-03-15 | CN114309926B | 2022-08-09 | 靳世偉、陳華 || 48 | レーザーの繰り返し組合せ軌跡に対するパワー制御方法 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202210245847.0 | 2022-03-14 | CN114393296B | 2024-04-26 | 韓良煜、温立飛 || 49 | 制御信号の安全防護回路 | 発明特許 | 許可、実体審査の有効化、公開 | CN202210202938.6 | 2022-03-03 | CN114336536B | 2023-01-31 | 韓良煜、温立飛、張涛 || 50 | 汎用MCUのUSB複合デバイスおよび資料配布とデバイス調整方法 | 発明特許 | 実体審査の有効化、公開 | CN202210208569.1 | 2022-03-03 | CN116737637A | 2023-09-12 | 韓良煜、温立飛 | 注：市場にはリスクがあり、投資には注意が必要。この記事は、AI大規模モデルが第三者データベースに基づいて自動的に配信するものであり、Sina Financeの見解を代表するものではない。この記事に掲載されているいかなる情報も、すべて参考情報にすぎず、個人投資助言を構成しない。相違がある場合は、実際の公告に従う。疑問がある場合は、biz@staff.sina.com.cn まで連絡してほしい。
金橙子はレーザー刻印システムに関する特許を取得しました。電子機器のレーザー刻印制御システムのインターフェース操作の変化
3月31日の報道によると、国家知識産権局の情報によれば、北京市金橙子科技股份有限公司は「電子機器のレーザー刻印制御システム操作グラフィカルユーザインタフェース（一）」という名称の特許を出願し、特許の付与公告番号はCN309876904S、付与公告日は2026年3月27日となっている。出願番号はCN202530091585.1、出願公開日（公告日）は2026年3月27日、出願日（申請日）は2025年2月28日、発明者は邱勇、特許代理機構は蘇州汇诚汇智特許代理事務所（普通合伙）、特許代理師は顧品荧、分類番号は14-04(15)。
特許の要約によると、1.本意匠の製品の名称：電子機器のレーザー刻印制御システム操作グラフィカルユーザインタフェース（一）。2.本意匠の製品の用途：電子機器のために使用される。3.本意匠の製品のデザイン要点：グラフィカルユーザインタフェースにある。4.最もデザイン要点を表す図または写真：図1 主視図。5.指定する図1を基本デザインとする。6.その他説明が必要な状況 その他説明：図1 主視図は操作ソフトのメイン画面として表示される；図1 インタフェース変化状態図1は、図1 主視図において「ファイル」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図2は、図1 インタフェース変化状態図1において「システムパラメータ」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図3は、図1 インタフェース変化状態図2において「カラー」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図4は、図1 インタフェース変化状態図3において「ワークスペース」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図5は、図1 インタフェース変化状態図4において「自動バックアップ」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図6は、図1 インタフェース変化状態図5において「移動回転」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図7は、図1 インタフェース変化状態図6において「プラグインマネージャ」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図8は、図1 インタフェース変化状態図7において「ユーザーマネージャ」を選択した後に表示される変化状態図；図1 インタフェース変化状態図9は、図1 インタフェース変化状態図8において「language」を選択した後に表示される変化状態図；図2 主視図は操作ソフトのメイン画面として表示される；図2 インタフェース変化状態図1は、図2 主視図において「編集」を選択した後に表示される変化状態図；図2 インタフェース変化状態図2は、図2 インタフェース変化状態図1において「フィル」を選択した後に表示される変化状態図；図3 主視図は操作ソフトのメイン画面である；図3 インタフェース変化状態図1は、図3 主視図において「描画」を選択した後に表示される変化状態図；図3 インタフェース変化状態図2は、図3 インタフェース変化状態図1において「らせん線」を選択した後に表示される変化状態図；図4 主視図は操作ソフトのメイン画面；図4 インタフェース変化状態図1は、図4 主視図において「変更」を選択した後に表示される変化状態図；図4 インタフェース変化状態図2は、図4 インタフェース変化状態図1において「曲線編集」「自動接続」を選択した後に表示される変化状態図；図4 インタフェース変化状態図3は、図4 インタフェース変化状態図2において「交差点を除去」を選択した後に表示される変化状態図；図5 主視図は操作ソフトのメイン画面；図5 インタフェース変化状態図1は、図5 主視図において「レーザー」を選択した後に表示される変化状態図；図5 インタフェース変化状態図2は、図5 インタフェース変化状態図1において「回転角刻印」を選択した後に表示される変化状態図；図5 インタフェース変化状態図3は、図5 インタフェース変化状態図2において「パラメータ（F3）」を選択した後に表示される変化状態図；図6 主視図は操作ソフトのメイン画面；図6 インタフェース変化状態図1は、図6 主視図において下方に「パラメータ（F3）」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図2は、図6 インタフェース変化状態図1において「パスワード」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図3は、図6 インタフェース変化状態図2において「レーザー制御」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図4は、図6 インタフェース変化状態図3において「パワーマッピング」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図5は、図6 インタフェース変化状態図4において「確定」をクリックし、その後「周波数マッピング」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図6は、図6 インタフェース変化状態図5において「確定」をクリックし、その後「テストレーザー」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図7は、図6 インタフェース変化状態図6において「確定」をクリックし、その後「ポート」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図8は、図6 インタフェース変化状態図7において「その他」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図9は、図6 インタフェース変化状態図8において「飛行刻印」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図10は、図6 インタフェース変化状態図9において「確定」をクリックし、その後「赤色光指示」を選択した後に表示される変化状態図；図6 インタフェース変化状態図11は、図6 インタフェース変化状態図10において「確定」をクリックし、その後「ハードウェア情報」を選択した後に表示される変化状態図；図7 主視図は操作ソフトのメイン画面；図7 インタフェース変化状態図1は、図7 主視図において「オブジェクトリスト」を選択しテキストを入力した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図2は、図7 インタフェース変化状態図1において「確定」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図3は、図7 インタフェース変化状態図2において左側で「有効変数テキスト」「追加」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図4は、図7 インタフェース変化状態図3において「シリアル番号」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図5は、図7 インタフェース変化状態図4において「日付」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図6は、図7 インタフェース変化状態図5において「時間」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図7は、図7 インタフェース変化状態図6において「ネットワーク通信」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図8は、図7 インタフェース変化状態図7において「シリアル通信」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図9は、図7 インタフェース変化状態図8において「ファイル」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図10は、図7 インタフェース変化状態図9において「キーボード」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図11は、図7 インタフェース変化状態図10において「SQLデータベース」を選択した後に表示される変化状態図；図7 インタフェース変化状態図12は、図7 インタフェース変化状態図11において左側下方で「詳細」を選択した後に表示される変化状態図。
金橙子は2004年1月14日に設立され、2022年10月26日に上海証券取引所に上場し、本社所在地は北京市にある。事務所住所も北京市である。同社は国内有数のレーザー加工設備の運動制御システム提供業者であり、技術力が強く、製品はレーザー加工分野に広く応用されている。
金橙子の主な事業は、レーザー加工設備の運動制御システムの研究開発および販売であり、さまざまなレーザー加工シーンに対して総合的なソリューションおよび技術サービスを提供する。申万業界区分は「コンピュータ - ソフトウェア開発 - 垂直アプリケーションソフト」であり、予盈予増、半導体、TMTなどのコンセプトのセクターに関わっている。
2025年、金橙子の売上高は2.53億元で、業界22社のうち21位に位置し、業界1位の德赛西威の325.57億元および2位の天源迪科の93.81億元を大きく下回っている。業界平均は37.13億元、中間値（メディアン）は10.58億元。その主力事業のうち、レーザー加工制御システムの収入は1.83億元で72.10%を占める；レーザーシステム統合のハードウェアは4512.32万元で17.81%；レーザー精密加工設備は2342.21万元で9.24%；その他（補足）は216.27万元で0.85%である。純利益に関しては、2025年が3587.36万元で、業界ランキングは16/22であり、業界1位の同花順の32.05億元および2位の德赛西威の24.73億元との格差が明確である。業界平均は4.03億元、中間値（メディアン）は7050.55万元。
北京市金橙子科技股份有限公司の最近の特許状況は以下のとおり：
注：市場にはリスクがあり、投資には注意が必要。この記事は、AI大規模モデルが第三者データベースに基づいて自動的に配信するものであり、Sina Financeの見解を代表するものではない。この記事に掲載されているいかなる情報も、すべて参考情報にすぎず、個人投資助言を構成しない。相違がある場合は、実際の公告に従う。疑問がある場合は、biz@staff.sina.com.cn まで連絡してほしい。