Shingo Micro装 acquired a patent related to suction cup potential monitoring. It monitors suction cup potential, eliminates charge accumulation, and prevents electrostatic damage.

2023年3月21日の報道によると、国家知識産権局の情報によれば、合肥芯碁微電子装備股份有限公司は「無マスクテンプレート直写露光装置用の吸盤電位監視システムおよび直写露光装置」と名付けられた特許を出願し、特許公告番号はCN224020147U、公告日を2026年3月20日としている。出願番号はCN202520419485.1、出願公開日は2026年3月20日、出願日は2025年3月11日、発明者は葛星雨、朱会敏、曹桂林、卢小齐、孙文彪、特許代理機関は北京景聞知的財産権代理有限公司、代理人は赵巧从、分類番号はG03F7/20。

特許の要約によると、本実用新案は、無マスクテンプレート直写露光装置用の吸盤電位監視システムおよび直写露光装置を公開しており、以下の構成からなる:吸盤装置、電位センサー、スイッチコンポーネント、イオン発生器、コントローラー。コントローラーは、吸引真空指令または破真空指令を送信してスイッチコンポーネントの通断状態を制御し、風道の気流方向を制御することで、吸盤装置を吸引真空状態または破真空状態にし、板材の吸着または分離機能を実現する。さらに、電位センサーから送信される電位差を受信し、吸盤装置が破真空状態に入り電位差があらかじめ記録された較正値を超えた場合、イオン発生器に放電開始の指令を出し、イオン発生器を起動させて放電させる。これにより、風道内の破真空気流にイオンを注入し、摩擦による吸盤装置と板材間の電荷蓄積を効果的に除去し、静電気による電子機器の損傷を防止できる。

芯碁微装は2015年6月30日に設立され、2021年4月1日に上海証券取引所に上場した。本社および事務所は安徽省合肥市に位置し、国内の微細ナノ直写光刻装置分野のリーディング企業であり、コア事業は光刻装置とそのサービスで、技術と全産業チェーンの優位性を持つ。

芯碁微装の申万業種は「機械設備-専用設備-その他専用設備」であり、PCB概念、年次報告の予想増加、OLEDなどのセクターに関わる。主な事業は、微細ナノ直写光刻を技術の核とした直接成像装置および直写光刻装置の研究開発、生産、販売、保守サービスであり、製品は多領域の光刻工程をカバーしている。

2025年、芯碁微装の営業収入は14.08億元に達し、業界第1位であり、業界平均値および中央値と同水準を維持している。主な事業別の売上高は、PCBシリーズが10.8億元(構成比76.69%)、半導体関連シリーズが2.33億元(構成比16.58%)、リースおよびその他が8739.3万元(構成比6.21%)、その他(補足)が738.1万元(構成比0.52%)。純利益は2.9億元で、こちらも業界第1位であり、平均値と中央値と一致している。

合肥芯碁微電子装備股份有限公司の最近の特許状況は以下の通り:

番号 特許名 特許タイプ 法的状態 申請番号 申請日 公開(公告)番号 公開(公告)日 発明者
1 折りたたみ可能な圧着機構およびLDI装置 実用新案 授権 CN202520797048.3 2025-04-24 CN224005412U 2026-03-17 汪志全、梁旭
2 光学距離測定装置およびレーザ直写露光機 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202510416740.1 2025-04-03 CN120293010A 2025-07-11 徐剑锋、穆璐、姜蔚然
3 レーザ加工装置およびレーザ加工システム 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202510309673.3 2025-03-17 CN120095316A 2025-06-06 刘孟辉、赵尚州
4 無マスクテンプレート直写光刻露光機用の吸盤電位監視システムおよび直写光刻露光機 実用新案 授権 CN202520419485.1 2025-03-11 CN224020147U 2026-03-20 葛星雨、朱会敏、曹桂林、卢小齐、孙文彪
5 吸着コンポーネントおよびそれを備えた露光装置 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202510276930.8 2025-03-10 CN119987158A 2025-05-13 叶飞、程刚、项宗齐、汪涛
6 吸着コンポーネントおよびそれを備えた露光装置 実用新案 授権 CN202520372061.4 2025-03-05 CN223692643U 2025-12-19 于成信
7 LDI露光機の位置合わせ方法およびLDI露光機 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202510224817.5 2025-02-27 CN119805888A 2025-04-11 赵祥宝、郑超、朱远哲、高晓锋
8 LDI露光機の位置合わせ方法およびLDI露光機 発明特許 授権 CN202510225750.7 2025-02-27 CN119805889B 2025-11-28 赵祥宝、蔡志鸿
9 直写光刻机の偏差補正位置合わせ方法および装置、媒体、光刻機 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202510148769.6 2025-02-11 CN119805879A 2025-04-11 王克、程建高
10 振動分板装置 実用新案 授権 CN202520211748.X 2025-02-11 CN223792483U 2026-01-13 陸原、束义、刘汉云
11 二台面露光機 実用新案 授権 CN202520171673.7 2025-01-25 CN223796823U 2026-01-13 于成信
12 曝光面の線量補正システム 実用新案 授権 CN202520171669.0 2025-01-25 CN223796822U 2026-01-13 李志豪、董邦林、穆璐、宋照爱
13 挿入フレーム自動収放板装置 発明特許 授権 CN202510120189.6 2025-01-25 CN119822052B 2026-03-13 焦官华、陆原、束义、刘汉云
14 挿入板クランプ装置 発明特許 授権 CN202510120188.1 2025-01-25 CN119822051B 2026-03-17 陆原、焦官华、束义、刘汉云
15 動作露光作業台、露光システムおよび露光制御方法 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202510110128.1 2025-01-23 CN119644681A 2025-03-18 李辉
16 動作露光作業台およびそれを備えた露光システム 実用新案 授権 CN202520160598.4 2025-01-23 CN223911162U 2026-02-13 李辉
17 UVレーザ穴あけ加工技術向上用のレーザ穴あけ装置 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202510057567.0 2025-01-14 CN119794623A 2025-04-11 刘孟辉、赵尚州
18 偏向ミラーを用いたビーム分割および制御によるレーザ並列加工装置 実用新案 授権 CN202520083435.0 2025-01-14 CN223932816U 2026-02-24 刘孟辉
19 レーザ穴あけの独立動的調整を行う多AOMカスケード装置 実用新案 授権 CN202520083520.7 2025-01-14 CN223932871U 2026-02-24 刘孟辉
20 レーザーダイオードの放熱装置、高出力半導体レーザおよび組立方法 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202510016572.7 2025-01-06 CN119994629A 2025-05-13 刘亮、杨凯
21 半導体空間光レーザのレンズ調整治具および方法 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202510016571.2 2025-01-06 CN120002560A 2025-05-16 刘亮、杨凯
22 レーザ外殻および半導体空間光レーザ 実用新案 授権 CN202520025368.7 2025-01-06 CN223797724U 2026-01-13 刘亮、金伟龙、杨凯
23 曝光装置 実用新案 授権 CN202423309294.4 2024-12-31 CN223566032U 2025-11-18 叶飞
24 光頭基板用の冷却機構およびその露光装置 実用新案 授権 CN202423314307.7 2024-12-31 CN223712003U 2025-12-23 张文龙、梁旭
25 直写式光刻機の露光制御方法および装置、媒体、直写式光刻機 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202411904595.3 2024-12-23 CN119556532A 2025-03-04 王超、梅文辉、赵美云、邵德洋
26 自動上下料装置 実用新案 授権 CN202423178878.2 2024-12-23 CN223572237U 2025-11-21 张亮、赵尚州、李辉、岳览
27 吸着アセンブリおよびそれを備えた光刻装置 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202411726109.3 2024-11-28 CN119511647A 2025-02-25 侯庆伟、汪涛
28 無マスク露光機の露光パワー密度向上装置、方法および露光機 発明特許 授権、実体審査の効力、公布 CN202411720670.0 2024-11-28 CN119292005B 2025-10-10 卞洪飞、张辉、叶加良、陈东
29 空間光制御を用いた二波長レーザ微細ナノ製造装置および方法 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202411700772.6 2024-11-26 CN119387805A 2025-02-07 张辉、卞洪飞、叶加良、陈东
30 取付装置 実用新案 授権 CN202422891408.4 2024-11-26 CN223385416U 2025-09-26 李冬青、李香滨、焦官华、徐欣
31 真空吸着固定式ウエハ台 実用新案 授権 CN202422718008.3 2024-11-06 CN223598699U 2025-11-25 于成信
32 クランプアセンブリおよびそれを備えた光刻装置 実用新案 授権 CN202422674996.6 2024-11-04 CN223666547U 2025-12-12 王历先、梁旭、张文龙
33 フィルター交換を迅速に行えるファンフィルター装置 実用新案 授権 CN202422675578.9 2024-11-01 CN223425389U 2025-10-10 程强
34 曝光総成およびそれを備えた光刻装置 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202411543995.6 2024-10-31 CN119126500A 2024-12-13 张浩为、刘孟辉、武林
35 LDI装置用の空気遮光装置 実用新案 授権 CN202422670377.X 2024-10-31 CN223401139U 2025-09-30 张文龙
36 DMDチップ冷却用の水冷システム 実用新案 授権 CN202422670371.2 2024-10-31 CN223598092U 2025-11-25 张文龙、梁旭、王历先
37 単一面LDI露光機 外観特許 授権 CN202430676628.8 2024-10-25 CN309380230S 2025-07-11 王历先、项宗齐、梁旭
38 FPDエッジ露光打码装置 外観特許 授権 CN202430676627.3 2024-10-25 CN309385911S 2025-07-15 程强
39 高効率単機両面露光装置 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202411492573.0 2024-10-24 CN119200348A 2024-12-27 曲鲁杰、程刚
40 高効率単機両面露光装置 実用新案 授権 CN202422576617.X 2024-10-24 CN223217782U 2025-08-12 曲鲁杰、程刚
41 集束アセンブリおよびそれを備えた光刻装置 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202411486173.9 2024-10-23 CN119126499A 2024-12-13 徐剑锋、戴晓霖、黄思航
42 校正アセンブリおよびそれを備えた露光装置 実用新案 授権 CN202421971890.6 2024-08-13 CN223260027U 2025-08-22 叶飞
43 レーザ加工装置 外観特許 授権 CN202430502595.5 2024-08-08 CN309288976S 2025-05-13 张亮
44 光刻ターゲット画像のぼかし除去方法および装置、ぼかし除去モデルおよび光刻機 発明特許 公布 CN202411056926.2 2024-08-02 CN118840287A 2024-10-25 冯浩川、郑超、王辰扬
45 直写光刻装置および露光制御方法 発明特許 授権、公布 CN202411056139.8 2024-08-02 CN118884780B 2025-09-16 张敏、戴晓霖、武邵东
46 視覚カメラ装置を備えたレーザ加工装置 実用新案 授権 CN202421856554.7 2024-08-01 CN223418627U 2025-10-10 张亮、董帅
47 光学拡張モジュールおよびそれを備えた光学システム 発明特許 授権、公布 CN202410988612.X 2024-07-23 CN118688972B 2025-09-26 曲鲁杰、蔡银银、程刚、赵美云
48 光学拡張モジュールおよびそれを備えた光学システム 発明特許 授権、公布 CN202410988613.4 2024-07-23 CN118707743B 2025-11-07 赵美云、曲鲁杰、蔡银银、程刚
49 直写式光刻機用の安全防護システムおよび方法 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202410699512.5 2024-05-31 CN118466111A 2024-08-09 童宇、朱会敏、周虎
50 LDI装置用の露光面エネルギー閉ループ制御方法 発明特許 実体審査の効力、公布 CN202410699502.1 2024-05-31 CN118466110A 2024-08-09 谢佳初、朱会敏、李致樯、郭弘丽、占亚利

なお、市場にはリスクが伴うため、投資は慎重に行う必要があります。本記事はAI大規模モデルが第三者データベースを基に自動的に公開したものであり、新浪財経の見解を示すものではありません。本文に記載された情報はあくまで参考であり、個人の投資判断を示すものではありません。内容に誤りがあれば、実際の公告を優先してください。ご不明な点があれば、biz@staff.sina.com.cnまでご連絡ください。

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