2024年4月27日、盛美上海は、最初のプラズマ強化化学気相堆積（PECVD）炭窒化ケイ素（SiCN）装置が正式に出荷されたことを発表しました。この装置は、55ナノメートル以下の高端ICプロセスの後段金属相互接続工程におけるPECVD NDC (SiCN)工程をサポートすることを目的としています。適用シーンには、銅酸化抑制、銅拡散防止層、エッチング停止層などが含まれます。（人民財訊）
盛美上海初のPECVD SiCN装置が順調に出荷されました
2024年4月27日、盛美上海は、最初のプラズマ強化化学気相堆積（PECVD）炭窒化ケイ素（SiCN）装置が正式に出荷されたことを発表しました。この装置は、55ナノメートル以下の高端ICプロセスの後段金属相互接続工程におけるPECVD NDC (SiCN)工程をサポートすることを目的としています。適用シーンには、銅酸化抑制、銅拡散防止層、エッチング停止層などが含まれます。（人民財訊）