Xingqi Micro obtient un brevet relatif à la surveillance du potentiel électrostatique des ventouses, qui surveille le potentiel électrostatique des ventouses, élimine l'accumulation de charges et prévient les dommages électrostatiques.

21 mars, selon les informations de l’Office national de la propriété intellectuelle, la société Hefei Xinqi Microelectronics Equipment Co., Ltd. a déposé un brevet intitulé « Système de surveillance de la potentiel de la ventouse pour imprimante à lithographie directe sans masque » et « Imprimante à lithographie directe sans masque ». Le numéro d’annonce d’autorisation est CN224020147U, la date d’autorisation étant le 20 mars 2026. Le numéro de demande est CN202520419485.1, la date de publication de la demande est le 20 mars 2026, la date de dépôt étant le 11 mars 2025. Les inventeurs sont Ge Xingyu, Zhu Huimin, Cao Guilin, Lu Xiaoqi et Sun Wenbiao. L’agence de dépôt de brevets est Beijing Jingwen Intellectual Property Agency Co., Ltd., avec Zhao Qiaocong comme agent de brevets. La classification est G03F7/20.

Le résumé du brevet indique que la présente invention concerne un système de surveillance de la potentiel de la ventouse pour une imprimante à lithographie directe sans masque, comprenant : un dispositif de ventouse, un capteur de potentiel, un composant d’interrupteur, un générateur d’ions et un contrôleur. Le contrôleur envoie des commandes d’aspiration ou de dépression pour contrôler l’état du composant d’interrupteur, afin de diriger le flux d’air dans le conduit d’air, contrôlant ainsi la ventouse pour qu’elle entre en état d’aspiration ou de dépression, permettant d’adhérer ou de séparer la pièce. Il reçoit également la différence de potentiel envoyée par le capteur de potentiel. Lorsque la ventouse est en état de dépression et que la différence de potentiel dépasse une valeur de calibration prédéfinie, le contrôleur envoie une commande d’activation de décharge au générateur d’ions, qui commence alors à décharger pour injecter des ions dans le flux d’air de dépression dans le conduit. Cette invention permet d’éliminer efficacement l’accumulation de charges électriques causée par le frottement entre la ventouse et la matériau, évitant ainsi que l’électricité statique n’endommage les composants électroniques de la machine.

Xinqi Microelectronics a été fondée le 30 juin 2015, et a été cotée à la Bourse de Shanghai le 1er avril 2021. Son siège social et son adresse de bureau sont situés dans la ville de Hefei, dans la province de l’Anhui. Elle est une entreprise leader dans le domaine des équipements de lithographie micro-nano en Chine, avec une activité principale dans la fabrication et le service de machines de lithographie, bénéficiant d’avantages technologiques et d’une chaîne industrielle complète.

Le secteur de Xinqi Microelectronics selon Shenwan est « Équipements mécaniques - Équipements spéciaux - Autres équipements spéciaux », incluant des concepts liés au PCB, à la croissance anticipée des résultats annuels, à l’OLED, etc. La société se concentre sur la recherche, la production, la vente et la maintenance de dispositifs d’imagerie directe par lithographie micro-nano, avec une couverture fonctionnelle dans plusieurs domaines du processus de lithographie.

En 2025, le chiffre d’affaires de Xinqi Microelectronics atteindra 1,408 milliard de yuans, se classant en première position dans le secteur, en ligne avec la moyenne et la médiane du secteur. Parmi ses principales activités, le secteur PCB représente 1,08 milliard de yuans, soit 76,69 % ; le secteur semi-conducteur général 233 millions de yuans, soit 16,58 % ; la location et autres 87,39 millions de yuans, soit 6,21 % ; et d’autres (complémentaires) 7,38 millions de yuans, soit 0,52 %. Le bénéfice net s’élève à 290 millions de yuans, également en première position dans le secteur, en ligne avec la moyenne et la médiane.

Les brevets récents de Hefei Xinqi Microelectronics Equipment Co., Ltd. sont les suivants :

Numéro Nom du brevet Type de brevet Statut juridique Numéro de demande Date de demande Numéro d’annonce Date d’annonce Inventeurs
1 Dispositif de serrage pliable et équipement LDI Modèle d’utilité Autorisé CN202520797048.3 24/04/2025 CN224005412U 17/03/2026 Wang Zhiquan, Liang Xu
2 Dispositif de mesure optique et machine à lithographie laser directe Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202510416740.1 03/04/2025 CN120293010A 11/07/2025 Xu Jianfeng, Mu Lu, Jiang Weiran
3 Dispositif de traitement laser et système de traitement laser Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202510309673.3 17/03/2025 CN120095316A 06/06/2025 Liu Menghui, Zhao Shangzhou
4 Système de surveillance de potentiel de la ventouse pour imprimante à lithographie directe sans masque Modèle d’utilité Autorisé CN202520419485.1 11/03/2025 CN224020147U 20/03/2026 Ge Xingyu, Zhu Huimin, Cao Guilin, Lu Xiaoqi, Sun Wenbiao
5 Composant d’adsorption et dispositif d’exposition avec celui-ci Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202510276930.8 10/03/2025 CN119987158A 13/05/2025 Ye Fei, Cheng Gang, Xiang Zongqi, Wang Tao
6 Composant d’adsorption et dispositif d’exposition avec celui-ci Modèle d’utilité Autorisé CN202520372061.4 05/03/2025 CN223692643U 19/12/2025 Yu Chengxin
7 Méthode d’alignement pour machine LDI et machine LDI Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202510224817.5 27/02/2025 CN119805888A 11/04/2025 Zhao Xiangbao, Zheng Chao, Zhu Yuanzhe, Gao Xiaofeng
8 Méthode d’alignement pour machine LDI et machine LDI Brevet d’invention Autorisé CN202510225750.7 27/02/2025 CN119805889B 28/11/2025 Zhao Xiangbao, Cai Zhihong
9 Méthode et dispositif de correction d’alignement pour machine à lithographie directe, support et machine Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202510148769.6 11/02/2025 CN119805879A 11/04/2025 Wang Ke, Cheng Jiangao
10 Dispositif de division de vibration Modèle d’utilité Autorisé CN202520211748.X 11/02/2025 CN223792483U 13/01/2026 Lu Yuan, Shu Yi, Liu Hanyun
11 Imprimante à double plateau Modèle d’utilité Autorisé CN202520171673.7 25/01/2025 CN223796823U 13/01/2026 Yu Chengxin
12 Système de correction de dose d’exposition Modèle d’utilité Autorisé CN202520171669.0 25/01/2025 CN223796822U 13/01/2026 Li Zhihao, Dong Banglin, Mu Lu, Song Zhaoyi
13 Dispositif automatique de chargement et déchargement de cadres Brevet d’invention Autorisé CN202510120189.6 25/01/2025 CN119822052B 13/03/2026 Jiao Guanhua, Lu Yuan, Shu Yi, Liu Hanyun
14 Dispositif de fixation de plaques Brevet d’invention Autorisé CN202510120188.1 25/01/2025 CN119822051B 17/03/2026 Lu Yuan, Jiao Guanhua, Shu Yi, Liu Hanyun
15 Plateforme de lithographie mobile, système d’exposition et méthode de contrôle Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202510110128.1 23/01/2025 CN119644681A 18/03/2025 Li Hui
16 Plateforme de lithographie mobile avec système d’exposition associé Modèle d’utilité Autorisé CN202520160598.4 23/01/2025 CN223911162U 13/02/2026 Li Hui
17 Dispositif de traitement laser pour perçage UV à haute vitesse Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202510057567.0 14/01/2025 CN119794623A 11/04/2025 Liu Menghui, Zhao Shangzhou
18 Dispositif de traitement laser parallèle basé sur déviation de miroir pour division et contrôle du faisceau Modèle d’utilité Autorisé CN202520083435.0 14/01/2025 CN223932816U 24/02/2026 Liu Menghui
19 Appareil de cascade multi-AOM pour contrôle dynamique indépendant du perçage laser Modèle d’utilité Autorisé CN202520083520.7 14/01/2025 CN223932871U 24/02/2026 Liu Menghui
20 Dispositif de refroidissement pour diode laser, laser à semi-conducteur haute puissance et méthode d’assemblage Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202510016572.7 06/01/2025 CN119994629A 13/05/2025 Liu Liang, Yang Kai
21 Outil de réglage et méthode pour lentille de laser à espace semi-conducteur Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202510016571.2 06/01/2025 CN120002560A 16/05/2025 Liu Liang, Yang Kai
22 Boîtier de laser et laser à espace semi-conducteur Modèle d’utilité Autorisé CN202520025368.7 06/01/2025 CN223797724U 13/01/2026 Liu Liang, Jin Weilong, Yang Kai
23 Dispositif d’exposition Modèle d’utilité Autorisé CN202423309294.4 31/12/2024 CN223566032U 18/11/2025 Ye Fei
24 Dispositif de dissipation thermique pour la plaque de base de la tête d’éclairage et son machine d’exposition Modèle d’utilité Autorisé CN202423314307.7 31/12/2024 CN223712003U 23/12/2025 Zhang Wenlong, Liang Xu
25 Méthode et dispositif de contrôle d’exposition pour machine à lithographie directe, support et machine Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202411904595.3 23/12/2024 CN119556532A 04/03/2025 Wang Chao, Mei Wenhui, Zhao Meiyun, Shao Deyang
26 Dispositif automatique de chargement et déchargement Modèle d’utilité Autorisé CN202423178878.2 23/12/2024 CN223572237U 21/11/2025 Zhang Liang, Zhao Shangzhou, Li Hui, Yue Lan
27 Assemblage d’adsorption et dispositif de lithographie avec celui-ci Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202411726109.3 28/11/2024 CN119511647A 25/02/2025 Hou Qingwei, Wang Tao
28 Dispositif, méthode et machine pour augmenter la densité de puissance d’exposition d’une machine à lithographie sans masque Brevet d’invention Autorisé, validé après examen substantiel, publication CN202411720670.0 28/11/2024 CN119292005B 10/10/2025 Bian Hongfei, Zhang Hui, Ye Jialiang, Chen Dong
29 Dispositif et méthode de fabrication micro-nano à double bande de longueur d’onde basé sur modulation spatiale de lumière Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202411700772.6 26/11/2024 CN119387805A 07/02/2025 Zhang Hui, Bian Hongfei, Ye Jialiang, Chen Dong
30 Dispositif de prise Modèle d’utilité Autorisé CN202422891408.4 26/11/2024 CN223385416U 26/09/2025 Li Dongqing, Li Xiangbin, Jiao Guanhua, Xu Xin
31 Plateforme de wafer à fixation par aspiration sous vide Modèle d’utilité Autorisé CN202422718008.3 06/11/2024 CN223598699U 25/11/2025 Yu Chengxin
32 Assemblage de fixation et dispositif de lithographie avec celui-ci Modèle d’utilité Autorisé CN202422674996.6 04/11/2024 CN223666547U 12/12/2025 Wang Lixian, Liang Xu, Zhang Wenlong
33 Dispositif de filtration de ventilateur à changement rapide de filtre Modèle d’utilité Autorisé CN202422675578.9 01/11/2024 CN223425389U 10/10/2025 Cheng Qiang
34 Module d’exposition et équipement de lithographie avec celui-ci Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202411543995.6 31/10/2024 CN119126500A 13/12/2024 Zhang Haowei, Liu Menghui, Wu Lin
35 Dispositif de protection pneumatique pour machine LDI Modèle d’utilité Autorisé CN202422670377.X 31/10/2024 CN223401139U 30/09/2025 Zhang Wenlong
36 Système de refroidissement à eau pour dissipation thermique de puce DMD Modèle d’utilité Autorisé CN202422670371.2 31/10/2024 CN223598092U 25/11/2025 Zhang Wenlong, Liang Xu, Wang Lixian
37 Machine LDI à plateau unique Brevet d’apparence Autorisé CN202430676628.8 25/10/2024 CN309380230S 11/07/2025 Wang Lixian, Xiang Zongqi, Liang Xu
38 Dispositif d’impression en bordure FPD Brevet d’apparence Autorisé CN202430676627.3 25/10/2024 CN309385911S 15/07/2025 Cheng Qiang
39 Dispositif d’exposition à double face à haute efficacité Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202411492573.0 24/10/2024 CN119200348A 27/12/2024 Qu Lujie, Cheng Gang
40 Dispositif d’exposition à double face à haute efficacité Modèle d’utilité Autorisé CN202422576617.X 24/10/2024 CN223217782U 12/08/2025 Qu Lujie, Cheng Gang
41 Assemblage de mise au point et dispositif de lithographie avec celui-ci Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202411486173.9 23/10/2024 CN119126499A 13/12/2024 Xu Jianfeng, Dai Xiaolin, Huang Sihang
42 Assemblage de calibration et dispositif d’exposition avec celui-ci Modèle d’utilité Autorisé CN202421971890.6 13/08/2024 CN223260027U 22/08/2025 Ye Fei
43 Équipement de traitement laser Brevet d’apparence Autorisé CN202430502595.5 08/08/2024 CN309288976S 13/05/2025 Zhang Liang
44 Méthode et dispositif de débruitage d’image de cible de lithographie, modèle de débruitage et machine de lithographie Brevet d’invention Publication CN202411056926.2 02/08/2024 CN118840287A 25/10/2024 Feng Haochuan, Zheng Chao, Wang Chenyang
45 Dispositif et méthode de contrôle d’exposition en lithographie directe Brevet d’invention Autorisé, publication CN202411056139.8 02/08/2024 CN118884780B 16/09/2025 Zhang Min, Dai Xiaolin, Wu Shaodong
46 Dispositif de traitement laser avec dispositif de caméra visuelle Modèle d’utilité Autorisé CN202421856554.7 01/08/2024 CN223418627U 10/10/2025 Zhang Liang, Dong Shuai
47 Module d’extension optique et système optique avec celui-ci Brevet d’invention Autorisé, publication CN202410988612.X 23/07/2024 CN118688972B 26/09/2025 Qu Lujie, Cai Yinyin, Cheng Gang, Zhao Meiyun
48 Module d’extension optique et système optique avec celui-ci Brevet d’invention Autorisé, publication CN202410988613.4 23/07/2024 CN118707743B 07/11/2025 Zhao Meiyun, Qu Lujie, Cai Yinyin, Cheng Gang
49 Système et méthode de protection de sécurité pour machine à lithographie à écriture directe Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202410699512.5 31/05/2024 CN118466111A 09/08/2024 Tong Yu, Zhu Huimin, Zhou Hu
50 Méthode de contrôle en boucle fermée de l’énergie de la surface d’exposition pour équipement LDI Brevet d’invention Validé après examen substantiel, publication CN202410699502.1 31/05/2024 CN118466110A 09/08/2024 Xie Jiachun, Zhu Huimin, Li Zhiqiang, Guo Hongli, Zhan Yali

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