三星电子采用英伟达 cuLitho,光刻性能提升 20 倍
三星电子正在使用英伟达的 cuLitho 平台,将计算光刻性能最高提升 20 倍。英伟达首席财务官(CFO)Colette Kress 在公司于 8 月 26 日(当地时间)举行的第二季度业绩电话会议上表示。该 GPU 加速软件能够精确计算和修正光刻掩模图案,以便在半导体晶圆上蚀刻微细电路。英伟达公布第二季度营收为 962.2 亿美元,同比增长 106%,并预计 2028 财年营收将增长约 70%,进一步巩固其在 AI 驱动的半导体制造加速领域的地位。 三星电子采用 cuLitho,光刻性能提升 20 倍 Colette Kress 解释称,三星电子正在利用英伟达的 cuLitho,将计算光刻性能最高提升 20 倍。cuLitho 是一款利用图形处理器(GPU)加速计算和修正光刻掩模图案的软件,能够在半导体晶圆上精准蚀刻微细电路。 台积电自 2024 年起将 cuLitho 集成至生产流程 英伟达表示,台积电也自 2024 年起在半导体生产中采用 cuLitho,从而加快芯片生产和开发速度。该平台代表着英伟达将业务拓展至半导体制造工作流优化领域,业务范围超越了其核心 GPU 业务。 英
Lucas Bennett ·08-27 06:59
