Empresa japonesa desenvolve tecnologia para fabricar semicondutores de 1,4 nanômetros com 1/10 da energia

SelfStaking · 2026-04-07T09:16:48+00:00

A empresa DNP (Dai Nippon Printing) desenvolveu uma tecnologia capaz de produzir semicondutores avançados com um décimo do consumo de energia. A nova forma de fabricar dispositivos voltados para a Canon, que será produzida em massa em 2027, suportará componentes centrais para produtos de próxima geração de 1,4 nanómetros (1 nanómetro é um bilionésimo de metro). Há uma possibilidade de redução significativa nos custos de fabricação de semicondutores com inteligência artificial (IA).Atualmente, para produzir em massa os semicondutores mais avançados, é necessário usar a máquina de litografia de luz ultravioleta extrema (EUV) produzida exclusivamente pela ASML Holdings, dos Países Baixos. A etapa de “litografia” que desenha os circuitos na pastilha (substrato) representa de 30% a 50% do custo total de fabricação de semicondutores. Quanto mais finos os circuitos, mais vezes a litografia é necessária, aumentando também o consumo de energia. Uma máquina de litografia EUV custa cerca de 30 bilhões de ienes, representando um peso financeiro considerável para os fabricantes de semicondutores.E a Canon está desenvolvendo uma tecnologia de fabricação chamada “Nanoimprint”

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2026-04-07 09:16:48

A Nippon Paper Industries (DNP) desenvolveu uma tecnologia que permite produzir semicondutores avançados com apenas um décimo do consumo de energia. O novo método de fabrico de dispositivos para a Canon será produzido em massa a partir de 2027, permitindo fabricar componentes essenciais para produtos da próxima geração de 1,4 nanómetros (1 nanómetro corresponde a um bilionésimo de metro). Existe a possibilidade de reduzir significativamente os custos de produção de semicondutores para inteligência artificial (AI).

Atualmente, para produzir em massa os semicondutores mais avançados, é necessário utilizar máquinas de litografia de ultravioleta extremo (EUV) fabricadas globalmente apenas pela ASML Holdings (ASML Holdings) nos Países Baixos. O processo de “litografia”, que desenha circuitos num wafer (substrato), representa 30% a 50% do custo total de fabrico de semicondutores. Quanto mais fino for o circuito, mais vezes é preciso fazer a litografia, e o consumo de energia aumenta em paralelo. O preço de uma máquina de litografia EUV é de cerca de 30 mil milhões de ienes, o que impõe uma pesada carga de investimento aos fabricantes de semicondutores.

Por outro lado, os equipamentos de fabrico de “nanoimpressão (Nanoimprint)” da Canon utilizam um método semelhante ao de um carimbo para criar circuitos no wafer. A DNP desenvolveu um “template” (modelo) de circuito equivalente a um carimbo de alta definição, que pode ser usado até ao processo de 1,4 nanómetros. Antes, esta tecnologia não conseguia suportar a produção de semicondutores avançados como os de 2 nanómetros.

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A Nikkei Inc. e o Financial Times fundiram-se em novembro de 2015 para se tornarem no mesmo grupo de comunicação social. A aliança formada por duas empresas jornalísticas do Japão e do Reino Unido, que começaram a publicar ainda no século XIX, está a avançar a colaboração em áreas amplas, com o lema “jornalismo económico de alta qualidade e o mais forte”. Nesta ocasião, como parte desse esforço, houve a permuta de artigos entre os sites em chinês de ambas as redações.

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