A Xingqi Micro obteve uma patente relacionada com o monitoramento do potencial do ventosa, monitorando o potencial do ventosa e eliminando o acumular de carga para prevenir danos eletrostáticos.

21 de março, informações do Escritório de Propriedade Intelectual do Estado indicam que a Hefei Xinqi Microelectronics Equipment Co., Ltd. solicitou uma patente intitulada “Sistema de monitorização de potencial de ventosa para impressoras de litografia de escrita direta sem máscara e impressora de litografia de escrita direta”, com o número de publicação CN224020147U, publicado em 20 de março de 2026. O número de pedido é CN202520419485.1, publicado em 20 de março de 2026, solicitado em 11 de março de 2025. Inventores: Ge Xingyu, Zhu Huimin, Cao Guilin, Lu Xiaoqi, Sun Wenbiao. Agência de patentes: Beijing Jingwen Intellectual Property Agency Co., Ltd. Patenteista: Zhao Qiaocong. Classificação: G03F7/20.

O resumo da patente revela que a invenção trata de um sistema de monitorização de potencial de ventosa para impressoras de litografia de escrita direta sem máscara, incluindo: dispositivo de ventosa, sensor de potencial, componente de comutação, gerador de íons e controlador. O controlador envia comandos de vácuo ou de ruptura de vácuo para controlar o estado do componente de comutação, regulando o fluxo de ar no duto de ar, assim controlando a ventosa para entrar ou sair do estado de vácuo, realizando a fixação ou separação da placa. Além disso, recebe a diferença de potencial enviada pelo sensor de potencial e, quando a ventosa está em estado de ruptura de vácuo e a diferença de potencial excede o valor de calibração pré-estabelecido, envia comando de descarga ao gerador de íons, ativando a descarga e injetando íons no fluxo de ar do duto. Essa inovação elimina efetivamente a acumulação de cargas elétricas devido ao atrito entre a ventosa e a placa, prevenindo danos aos componentes eletrônicos na máquina causados por eletricidade estática.

A Hefei Xinqi Microelectronics Equipment Co., Ltd. foi fundada em 30 de junho de 2015, listada na Bolsa de Valores de Xangai em 1 de abril de 2021, com sede e escritório na cidade de Hefei, Anhui. É líder no setor de equipamentos de litografia de escrita direta micro e nano no país, com foco em equipamentos de litografia e serviços, possuindo vantagens tecnológicas e de cadeia produtiva completa.

A empresa está classificada na indústria de máquinas e equipamentos especializados, envolvendo conceitos de PCB, aumento de receita anual, OLED, entre outros setores. Atua na pesquisa, produção, venda e manutenção de equipamentos de litografia de escrita direta com tecnologia de micro e nano escrita, abrangendo várias etapas do processo de litografia.

Em 2025, a Hefei Xinqi Microelectronics obteve uma receita de 1,408 bilhões de yuans, posição nº 1 no setor, alinhada à média e mediana do setor. Entre suas principais receitas: série PCB com 1,08 bilhões de yuans (76,69%), série semicondutores com 233 milhões de yuans (16,58%), aluguel e outros com 87,39 milhões de yuans (6,21%), outros (complementares) com 7,38 milhões de yuans (0,52%). O lucro líquido foi de 290 milhões de yuans, também em primeiro lugar no setor, igualando a média e mediana do setor.

Recentemente, a Hefei Xinqi Microelectronics Equipment Co., Ltd. possui as seguintes patentes:

Nome da Patente Tipo Estado Legal Número de Pedido Data de Pedido Número de Publicação Data de Publicação Inventores
1 Mecanismo de prensagem dobrável e equipamento LDI Modelo de utilidade Concedida CN202520797048.3 24/04/2025 CN224005412U 17/03/2026 Wang Zhiquan, Liang Xu
2 Dispositivo de medição óptica e impressora de litografia a laser direta Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202510416740.1 03/04/2025 CN120293010A 11/07/2025 Xu Jianfeng, Mu Lu, Jiang Weiran
3 Dispositivo de processamento a laser e sistema de processamento a laser Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202510309673.3 17/03/2025 CN120095316A 06/06/2025 Liu Menghui, Zhao Shangzhou
4 Sistema de monitorização de potencial de ventosa para impressoras de litografia de escrita direta sem máscara Modelo de utilidade Concedida CN202520419485.1 11/03/2025 CN224020147U 20/03/2026 Ge Xingyu, Zhu Huimin, Cao Guilin, Lu Xiaoqi, Sun Wenbiao
5 Componente de sucção e dispositivo de exposição com este Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202510276930.8 10/03/2025 CN119987158A 13/05/2025 Ye Fei, Cheng Gang, Xiang Zongqi, Wang Tao
6 Componente de sucção e dispositivo de exposição com este Modelo de utilidade Concedida CN202520372061.4 05/03/2025 CN223692643U 19/12/2025 Yu Chengxin
7 Método de alinhamento para impressora de litografia a laser direta e impressora de litografia a laser direta Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202510224817.5 27/02/2025 CN119805888A 11/04/2025 Zhao Xiangbao, Zheng Chao, Zhu YuanZhe
8 Método de alinhamento para impressora de litografia a laser direta e impressora de litografia a laser direta Patente de invenção Concedida CN202510225750.7 27/02/2025 CN119805889B 28/11/2025 Zhao Xiangbao, Cai Zhihong
9 Método e dispositivo de correção de desvio para impressoras de litografia de escrita direta, mídia e impressora Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202510148769.6 11/02/2025 CN119805879A 11/04/2025 Wang Ke, Cheng Jiangao
10 Dispositivo de separação de vibração Modelo de utilidade Concedida CN202520211748.X 11/02/2025 CN223792483U 13/01/2026 Lu Yuan, Shu Yi, Liu Hanyun
11 Impressora de dupla mesa Modelo de utilidade Concedida CN202520171673.7 25/01/2025 CN223796823U 13/01/2026 Yu Chengxin
12 Sistema de correção de dose de exposição Modelo de utilidade Concedida CN202520171669.0 25/01/2025 CN223796822U 13/01/2026 Li Zhihao, Dong Banglin, Mu Lu, Song Zhaoyi
13 Dispositivo de coleta automática de placas de inserção Patente de invenção Concedida CN202510120189.6 25/01/2025 CN119822052B 13/03/2026 Jiao Guanhua, Lu Yuan, Shu Yi, Liu Hanyun
14 Dispositivo de fixação de placa de inserção Patente de invenção Concedida CN202510120188.1 25/01/2025 CN119822051B 17/03/2026 Lu Yuan, Jiao Guanhua, Shu Yi, Liu Hanyun
15 Mesa de exposição móvel, sistema de exposição e método de controle de exposição Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202510110128.1 23/01/2025 CN119644681A 18/03/2025 Li Hui
16 Mesa de exposição móvel e sistema de exposição com ela Modelo de utilidade Concedida CN202520160598.4 23/01/2025 CN223911162U 13/02/2026 Li Hui
17 Equipamento de processamento a laser para perfuração a laser com aumento de UV Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202510057567.0 14/01/2025 CN119794623A 11/04/2025 Liu Menghui, Zhao Shangzhou
18 Dispositivo de processamento paralelo a laser baseado em espelho de desvio para divisão e controle de feixe Modelo de utilidade Concedida CN202520083435.0 14/01/2025 CN223932816U 24/02/2026 Liu Menghui
19 Dispositivo de cascata AOM para controle dinâmico de perfuração a laser Modelo de utilidade Concedida CN202520083520.7 14/01/2025 CN223932871U 24/02/2026 Liu Menghui
20 Dispositivo de dissipação de calor para diodo laser, laser semicondutor de alta potência e método de montagem Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202510016572.7 06/01/2025 CN119994629A 13/05/2025 Liu Liang, Yang Kai
21 Dispositivo de ajuste de lente de laser de espaço para laser de semicondutor e método Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202510016571.2 06/01/2025 CN120002560A 16/05/2025 Liu Liang, Yang Kai
22 Carcaça de laser e laser de espaço de semicondutor Modelo de utilidade Concedida CN202520025368.7 06/01/2025 CN223797724U 13/01/2026 Liu Liang, Jin Weilong, Yang Kai
23 Dispositivo de exposição Modelo de utilidade Concedida CN202423309294.4 31/12/2024 CN223566032U 18/11/2025 Ye Fei
24 Dispositivo de dissipação de calor para placa de cabeça de luz e impressora de exposição Modelo de utilidade Concedida CN202423314307.7 31/12/2024 CN223712003U 23/12/2025 Zhang Wenlong, Liang Xu
25 Método e dispositivo de controle de exposição de impressora de litografia de escrita direta, mídia e impressora Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202411904595.3 23/12/2024 CN119556532A 04/03/2025 Wang Chao, Mei Wenhui, Zhao Meiyun, Shao Deyang
26 Dispositivo de carregamento automático Modelo de utilidade Concedida CN202423178878.2 23/12/2024 CN223572237U 21/11/2025 Zhang Liang, Zhao Shangzhou, Li Hui, Yue Lan
27 Conjunto de sucção e dispositivo de litografia com ele Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202411726109.3 28/11/2024 CN119511647A 25/02/2025 Hou Qingwei, Wang Tao
28 Dispositivo, método e sistema de aumento de potência de exposição de impressora de litografia sem máscara Patente de invenção Concedida, em exame substantivo, publicada CN202411720670.0 28/11/2024 CN119292005B 10/10/2025 Bian Hongfei, Zhang Hui, Ye Jialiang, Chen Dong
29 Dispositivo e método de fabricação micro e nano de banda dupla baseado em modulação espacial de luz Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202411700772.6 26/11/2024 CN119387805A 07/02/2025 Zhang Hui, Bian Hongfei, Ye Jialiang, Chen Dong
30 Dispositivo de fixação Modelo de utilidade Concedida CN202422891408.4 26/11/2024 CN223385416U 26/09/2025 Li Dongqing, Li Xiangbin, Jiao Guanhua, Xu Xin
31 Mesa de fixação a vácuo para wafer Modelo de utilidade Concedida CN202422718008.3 06/11/2024 CN223598699U 25/11/2025 Yu Chengxin
32 Conjunto de fixação e dispositivo de litografia com ele Modelo de utilidade Concedida CN202422674996.6 04/11/2024 CN223666547U 12/12/2025 Wang Lixian, Liang Xu, Zhang Wenlong
33 Dispositivo de ventilador com troca rápida de filtro Modelo de utilidade Concedida CN202422675578.9 01/11/2024 CN223425389U 10/10/2025 Cheng Qiang
34 Conjunto de exposição e sistema de litografia com ele Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202411543995.6 31/10/2024 CN119126500A 13/12/2024 Zhang Haowei, Liu Menghui, Wu Lin
35 Dispositivo de sombreamento pneumático para equipamento LDI Modelo de utilidade Concedida CN202422670377.X 31/10/2024 CN223401139U 30/09/2025 Zhang Wenlong
36 Sistema de refrigeração a água para dissipação de calor de chip DMD Modelo de utilidade Concedida CN202422670371.2 31/10/2024 CN223598092U 25/11/2025 Zhang Wenlong, Liang Xu, Wang Lixian
37 Impressora LDI de mesa única Patente de desenho Concedida CN202430676628.8 25/10/2024 CN309380230S 11/07/2025 Wang Lixian, Xiang Zongqi, Liang Xu
38 Equipamento de marcação de exposição de borda FPD Patente de desenho Concedida CN202430676627.3 25/10/2024 CN309385911S 15/07/2025 Cheng Qiang
39 Equipamento de exposição de dupla face de alta eficiência Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202411492573.0 24/10/2024 CN119200348A 27/12/2024 Qu Luojie, Cheng Gang
40 Equipamento de exposição de dupla face de alta eficiência Modelo de utilidade Concedida CN202422576617.X 24/10/2024 CN223217782U 12/08/2025 Qu Luojie, Cheng Gang
41 Conjunto de foco e sistema de litografia com ele Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202411486173.9 23/10/2024 CN119126499A 13/12/2024 Xu Jianfeng, Dai Xiaolin, Huang Sihang
42 Conjunto de calibração e sistema de exposição com ele Modelo de utilidade Concedida CN202421971890.6 13/08/2024 CN223260027U 22/08/2025 Ye Fei
43 Equipamento de processamento a laser Patente de desenho Concedida CN202430502595.5 08/08/2024 CN309288976S 13/05/2025 Zhang Liang
44 Método e dispositivo de desfoque de imagem de alvo de litografia, modelo de desfoque e máquina de litografia Patente de invenção Publicada CN202411056926.2 02/08/2024 CN118840287A 25/10/2024 Feng Haochuan, Zheng Chao, Wang Chenyang
45 Dispositivo de controle de exposição de litografia de escrita direta e método Patente de invenção Concedida, publicada CN202411056139.8 02/08/2024 CN118884780B 16/09/2025 Zhang Min, Dai Xiaolin, Wu Shaodong
46 Equipamento de processamento a laser com câmera de visão Modelo de utilidade Concedida CN202421856554.7 01/08/2024 CN223418627U 10/10/2025 Zhang Liang, Dong Shuai
47 Módulo de expansão óptica e sistema óptico com ele Patente de invenção Concedida, publicada CN202410988612.X 23/07/2024 CN118688972B 26/09/2025 Qu Luojie, Cai Yinyin, Cheng Gang, Zhao Meiyun
48 Módulo de expansão óptica e sistema óptico com ele Patente de invenção Concedida, publicada CN202410988613.4 23/07/2024 CN118707743B 07/11/2025 Zhao Meiyun, Qu Luojie, Cai Yinyin, Cheng Gang
49 Sistema e método de proteção de segurança para impressoras de litografia de escrita direta Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202410699512.5 31/05/2024 CN118466111A 09/08/2024 Tong Yu, Zhu Huimin, Zhou Hu
50 Método de controle de energia de superfície de exposição de equipamento LDI Patente de invenção Em exame substantivo, publicada CN202410699502.1 31/05/2024 CN118466110A 09/08/2024 Xie Jiachun, Zhu Huimin, Li Zhiqiang, Guo Hongli, Zhan Yali

Declaração: O mercado apresenta riscos, investimentos devem ser feitos com cautela. Este conteúdo é gerado automaticamente por um modelo de IA baseado em banco de dados de terceiros, não refletindo opiniões do Sina Finance. Todas as informações aqui apresentadas são apenas para referência, não constituindo aconselhamento de investimento. Para informações precisas, consulte os anúncios oficiais. Em caso de dúvidas, contate biz@staff.sina.com.cn.

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