Líder en fotopolímeros + sustitución nacional, Tongcheng New Materials le invita a participar en el 【3er Foro de Tecnología de Mascaras y Fotopolímeros】

（来源：半导体前沿）

彤程新材始于1999 年轮胎化工材料国际贸易，2018 年于上海证券交易所上市，后通过收购北京北旭电子、科华等企业拓展电子材料业务，涉足可完全生物降解材料领域，目前拥有七座生产设施，正布局泰国橡胶助剂生产基地。

2月8日，已在上海证券交易所上市的彤程新材料集团股份有限公司，正式向港交所递交主板上市申请，寻求实现A+H两地双重上市，本次发行的独家保荐人为国泰海通。

此次H股发行计划，公司拟发行不超过总股本10%（未计超额配股权）的新股，并可授予承销商不超过15%的超额配售权。整个上市筹备过程推进迅速，从今年1月初首次对外公告筹划，到1月底股东大会审议通过具体方案，再到2月初正式递交申请文件，节奏紧凑高效。

财务数据显示，2023年至2025 年首九个月，彤程新材收入分别约为29.37亿元、32.63亿元、25.17亿元人民币；期间利润分别约为4.04亿元、5.34亿元、5.22亿元人民币。归母净利润的同比增速呈现放缓趋势，分别为36.37%、27.10%和12.65%。报告期内，公司整体毛利率相对稳定，维持在23%至25%的区间。

主要业务

彤程新材，成立于1999年，作为中国领先的综合性新材料服务供货商，主要从事新型化工材料的研发、生产、营销、销售及分销，主要业务包括三个分部：电子材料、轮胎用橡胶助剂及其他化工产品、可完全生物降解材料。

电子材料

公司产品供应主要分为(i)半导体材料，包括半导体光刻胶、CMP抛光垫、高纯溶剂及EBR；及(ii)显示面板材料，包括显示面板光刻胶、有机绝缘膜及发光材料。主要用于下游客户生产半导体和显示面板。公司已与半导体及显示面板制造商建立业务关系，涵盖多家中国领先的8英吋及12英吋晶圆制造厂商。光刻胶业务作为公司战略增长引擎，已实现从 G 线、I 线到 KrF、ArF 的全系列产品布局，技术实力与市场份额均处于国内领先地位。于2025年前九个月，彤程新材在中国半导体光刻胶市场及中国TFT数组光刻胶市场的销售金额均排名中位居中国供货商首位。

轮胎用橡胶助剂及其他化工产品

公司主要产品类别包括橡胶树脂及助剂，例如酚醛树脂、PTBP及其他化工产品。该等产品主要用于生产汽车轮胎及其他橡胶产品，以优化橡胶产品的各类性能，例如其黏性、强度及安全性。公司已与众多知名国内外轮胎制造商建立持续的业务关系，涵盖全球前20大轮胎制造商，彼等合共占全球轮胎行业市场份额超过70%。彤程新材于2025前九个月在全球及中国轮胎用酚醛树脂橡胶助剂市场的销售金额均排名第一。此外，根据中国橡胶工业协会橡胶助剂专业委员会发布的统计数据，于2024年，彤程新材中国所有橡胶酚醛树脂生产商中排名第一。

可完全生物降解材料

产品主要包括主要用于包装材料及农用地膜的PBAT产品。彤程新材的PBAT改性材料已获得不同国家相关监管机构的食品安全认证，并可广泛应用于可生物降解食品包装的生产。这些材料展现出卓越的阻隔性能和出色的透明度，使其成为传统聚乙烯(PE)薄膜的高效替代品。

来源：官方媒体/网络新闻

—论坛信息—

名称：第3届光掩模与光刻胶技术论坛

时间：2026年4月24日

地点：上海

主办方：亚化咨询

—会议背景—

随着半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装（DSA）和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年，高NA EUV已进入高容量制造阶段，而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者，正加速研发。

进入2026年，中国对高端光掩模的需求持续强劲增长，但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依赖等诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元，年复合增长率达4.0%。预计到2030年，该市场规模将进一步扩大至约80亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右，预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。

全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导，市场占有率超过70%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替代方面取得突破。

第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚行业的领军企业、机构的专家，探讨下一代光刻技术发展方向，中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用，市场机遇与挑战，和产业发展前景。

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