Xingqi Micro obtuvo una patente relacionada con el monitoreo del potencial de la ventosa, que permite supervisar el potencial de la ventosa y eliminar la acumulación de carga para prevenir daños por descarga electrostática.

21 de marzo, según información de la Oficina Nacional de Propiedad Intelectual, Hefei Xinqi Microelectronics Equipment Co., Ltd. solicitó una patente titulada “Sistema de monitoreo de potencial de succión para impresoras de litografía de escritura directa sin máscara y la propia impresora de litografía de escritura directa”, con número de publicación CN224020147U, cuya fecha de publicación es el 20 de marzo de 2026. El número de solicitud es CN202520419485.1, la fecha de publicación de la solicitud es el 20 de marzo de 2026, y la fecha de solicitud fue el 11 de marzo de 2025. Los inventores son Ge Xingyu, Zhu Huimin, Cao Guilin, Lu Xiaoqi y Sun Wenbiao. La agencia de patentes es Beijing Jingwen Intellectual Property Agency Co., Ltd., con Zhao Qiaocong como agente de patentes. La clasificación es G03F7/20.

El resumen de la patente indica que la invención presenta un sistema de monitoreo de potencial para una impresora de litografía de escritura directa sin máscara, que incluye: un dispositivo de succión, un sensor de potencial, un conjunto de interruptores, un generador de iones y un controlador. El controlador envía instrucciones de vacío o de ruptura de vacío para controlar el estado de los interruptores, dirigiendo el flujo de aire en la vía de aire, y así controlar el estado de vacío o de ruptura de vacío del dispositivo de succión, logrando la adsorción o separación de la placa. Además, recibe la diferencia de potencial enviada por el sensor de potencial y, cuando el dispositivo de succión entra en estado de ruptura de vacío y la diferencia de potencial supera un valor calibrado preestablecido, envía una orden de encendido de descarga al generador de iones, que inicia la descarga y inyecta iones en el flujo de aire en la vía. Esta invención puede eliminar eficazmente la acumulación de cargas por fricción entre el dispositivo de succión y la placa, evitando daños a los componentes electrónicos en la máquina por electricidad estática.

Xinqi Microelectronics fue fundada el 30 de junio de 2015 y cotiza en la Bolsa de Valores de Shanghai desde el 1 de abril de 2021. Su domicilio social y oficina están ubicados en Hefei, Anhui. Es una empresa líder en el campo de equipos de litografía de escritura directa a micro y nano escala en China, con negocios principales en equipos y servicios de litografía, y cuenta con ventajas tecnológicas y en toda la cadena industrial.

La industria a la que pertenece Xinqi Microelectronics en Shenwan es maquinaria - equipos especializados - otros equipos especializados, involucrando conceptos como PCB, crecimiento en informes anuales, OLED, entre otros sectores. La compañía se dedica principalmente a la investigación, producción, venta y mantenimiento de equipos de litografía de escritura directa a micro y nano escala, con funciones que cubren múltiples etapas del proceso de litografía en diversos campos.

Para 2025, Xinqi Microelectronics alcanzó ingresos operativos de 1.408 mil millones de yuanes, posicionándose en el primer lugar en su sector, en línea con el promedio y la mediana del sector. En sus principales negocios, la serie PCB generó 1.08 mil millones de yuanes, representando el 76.69%; la serie semiconductores en general, 233 millones de yuanes, con un 16.58%; alquiler y otros, 87.39 millones de yuanes, un 6.21%; y otros (complementarios), 7.38 millones de yuanes, un 0.52%. La utilidad neta fue de 290 millones de yuanes, también en el primer puesto del sector, igualando el promedio y la mediana del sector.

A continuación, se presenta la situación reciente de patentes de Hefei Xinqi Microelectronics Equipment Co., Ltd.:

Nombre de la patente Tipo de patente Estado legal Número de solicitud Fecha de solicitud Número de publicación Fecha de publicación Inventores
1 Mecanismo de compresión plegable y equipo LDI Modelo de utilidad Concedida CN202520797048.3 24-04-2025 CN224005412U 17-03-2026 Wang Zhiquan, Liang Xu
2 Dispositivo de medición óptica y máquina de exposición láser de escritura directa Patente de invención En revisión sustantiva, efectiva y publicada CN202510416740.1 03-04-2025 CN120293010A 11-07-2025 Xu Jianfeng, Mu Lu, Jiang Weiran
3 Dispositivo de procesamiento láser y sistema de procesamiento láser Patente de invención En revisión sustantiva, efectiva y publicada CN202510309673.3 17-03-2025 CN120095316A 06-06-2025 Liu Menghui, Zhao Shangzhou
4 Sistema de monitoreo de potencial de succión para impresoras de litografía de escritura directa sin máscara Modelo de utilidad Concedida CN202520419485.1 11-03-2025 CN224020147U 20-03-2026 Ge Xingyu, Zhu Huimin, Cao Guilin, Lu Xiaoqi, Sun Wenbiao
5 Conjunto de adsorción y dispositivo de exposición con el mismo Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202510276930.8 10-03-2025 CN119987158A 13-05-2025 Ye Fei, Cheng Gang, Xiang Zongqi, Wang Tao
6 Conjunto de adsorción y dispositivo de exposición con el mismo Modelo de utilidad Concedida CN202520372061.4 05-03-2025 CN223692643U 19-12-2025 Yu Chengxin
7 Método de alineación para máquinas de litografía LDI y máquina de litografía LDI Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202510224817.5 27-02-2025 CN119805888A 11-04-2025 Zhao Xiangbao, Zheng Chao, Zhu Yuanzhe, Gao Xiaofeng
8 Método de alineación para máquinas de litografía LDI y máquina de litografía LDI Patente de invención Concedida CN202510225750.7 27-02-2025 CN119805889B 28-11-2025 Zhao Xiangbao, Cai Zhihong
9 Método y dispositivo de corrección de alineación para máquinas de litografía de escritura directa, medio y máquina de litografía Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202510148769.6 11-02-2025 CN119805879A 11-04-2025 Wang Ke, Cheng Jiangao
10 Dispositivo de división de placas con vibración Modelo de utilidad Concedida CN202520211748.X 11-02-2025 CN223792483U 13-01-2026 Lu Yuan, Shu Yi, Liu Hanyun
11 Máquina de exposición de doble mesa Modelo de utilidad Concedida CN202520171673.7 25-01-2025 CN223796823U 13-01-2026 Yu Chengxin
12 Sistema de corrección de dosis de exposición Modelo de utilidad Concedida CN202520171669.0 25-01-2025 CN223796822U 13-01-2026 Li Zhihao, Dong Banglin, Mu Lu, Song Zhaoyi
13 Dispositivo automático de carga y descarga de marcos Patente de invención Concedida CN202510120189.6 25-01-2025 CN119822052B 13-03-2026 Jiao Guanhua, Lu Yuan, Shu Yi, Liu Hanyun
14 Dispositivo de sujeción de placas Patente de invención Concedida CN202510120188.1 25-01-2025 CN119822051B 17-03-2026 Lu Yuan, Jiao Guanhua, Shu Yi, Liu Hanyun
15 Mesa de exposición en movimiento, sistema de exposición y método de control de exposición Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202510110128.1 23-01-2025 CN119644681A 18-03-2025 Li Hui
16 Mesa de exposición en movimiento y sistema de exposición con ella Modelo de utilidad Concedida CN202520160598.4 23-01-2025 CN223911162U 13-02-2026 Li Hui
17 Dispositivo de procesamiento láser para perforación UV mejorada Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202510057567.0 14-01-2025 CN119794623A 11-04-2025 Liu Menghui, Zhao Shangzhou
18 Equipo de procesamiento paralelo láser basado en división de haz mediante espejo de desviación Modelo de utilidad Concedida CN202520083435.0 14-01-2025 CN223932816U 24-02-2026 Liu Menghui
19 Equipo en cascada AOM para control dinámico independiente de perforación láser Modelo de utilidad Concedida CN202520083520.7 14-01-2025 CN223932871U 24-02-2026 Liu Menghui
20 Dispositivo de disipación de calor para diodos láser, láser semiconductor de alta potencia y método de ensamblaje Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202510016572.7 06-01-2025 CN119994629A 13-05-2025 Liu Liang, Yang Kai
21 Dispositivo y método de ajuste para lentes de láser de luz espacial Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202510016571.2 06-01-2025 CN120002560A 16-05-2025 Liu Liang, Yang Kai
22 Carcasa de láser y láser de luz espacial de semiconductores Modelo de utilidad Concedida CN202520025368.7 06-01-2025 CN223797724U 13-01-2026 Liu Liang, Jin Weilong, Yang Kai
23 Dispositivo de exposición Modelo de utilidad Concedido CN202423309294.4 31-12-2024 CN223566032U 18-11-2025 Ye Fei
24 Sistema de disipación de calor para la base de la cabeza de luz y su máquina de exposición Modelo de utilidad Concedido CN202423314307.7 31-12-2024 CN223712003U 23-12-2025 Zhang Wenlong, Liang Xu
25 Método y dispositivo de control de exposición para máquinas de litografía de escritura directa, medio y máquina de litografía Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202411904595.3 23-12-2024 CN119556532A 04-03-2025 Wang Chao, Mei Wenhui, Zhao Meiyun, Shao Deyang
26 Dispositivo automático de carga y descarga Modelo de utilidad Concedido CN202423178878.2 23-12-2024 CN223572237U 21-11-2025 Zhang Liang, Zhao Shangzhou, Li Hui, Yue Lan
27 Conjunto de adsorción y dispositivo de litografía con el mismo Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202411726109.3 28-11-2024 CN119511647A 25-02-2025 Hou Qingwei, Wang Tao
28 Dispositivo, método y máquina de litografía para aumentar la potencia de exposición sin máscara Patente de invención Concedida, en revisión sustantiva y publicada CN202411720670.0 28-11-2024 CN119292005B 10-10-2025 Bian Hongfei, Zhang Hui, Ye Jialiang, Chen Dong
29 Dispositivo y método de fabricación micro y nano de doble banda basado en modulación espacial de luz Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202411700772.6 26-11-2024 CN119387805A 07-02-2025 Zhang Hui, Bian Hongfei, Ye Jialiang, Chen Dong
30 Dispositivo de sujeción Modelo de utilidad Concedido CN202422891408.4 26-11-2024 CN223385416U 26-09-2025 Li Dongqing, Li Xiangbin, Jiao Guanhua, Xu Xin
31 Plataforma de wafers con succión al vacío y fijación Modelo de utilidad Concedido CN202422718008.3 06-11-2024 CN223598699U 25-11-2025 Yu Chengxin
32 Conjunto de sujeción y dispositivo de litografía con el mismo Modelo de utilidad Concedido CN202422674996.6 04-11-2024 CN223666547U 12-12-2025 Wang Lixian, Liang Xu, Zhang Wenlong
33 Dispositivo de filtro de ventilador de cambio rápido de filtro Modelo de utilidad Concedido CN202422675578.9 01-11-2024 CN223425389U 10-10-2025 Cheng Qiang
34 Conjunto de exposición y equipo de litografía con el mismo Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202411543995.6 31-10-2024 CN119126500A 13-12-2024 Zhang Haowei, Liu Menghui, Wu Lin
35 Dispositivo de sombreado neumático para equipos LDI Modelo de utilidad Concedido CN202422670377.X 31-10-2024 CN223401139U 30-09-2025 Zhang Wenlong
36 Sistema de enfriamiento por agua para disipación de calor en chips DMD Modelo de utilidad Concedido CN202422670371.2 31-10-2024 CN223598092U 25-11-2025 Zhang Wenlong, Liang Xu, Wang Lixian
37 Máquina de exposición LDI de una sola mesa Patente de apariencia Concedida CN202430676628.8 25-10-2024 CN309380230S 11-07-2025 Wang Lixian, Xiang Zongqi, Liang Xu
38 Equipo de marcado y exposición en borde FPD Patente de apariencia Concedida CN202430676627.3 25-10-2024 CN309385911S 15-07-2025 Cheng Qiang
39 Equipo de exposición doble eficiente de una sola máquina Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202411492573.0 24-10-2024 CN119200348A 27-12-2024 Qu Lujie, Cheng Gang
40 Equipo de exposición doble eficiente de una sola máquina Modelo de utilidad Concedido CN202422576617.X 24-10-2024 CN223217782U 12-08-2025 Qu Lujie, Cheng Gang
41 Conjunto de enfoque y sistema de litografía con el mismo Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202411486173.9 23-10-2024 CN119126499A 13-12-2024 Xu Jianfeng, Dai Xiaolin, Huang Sihang
42 Conjunto de calibración y sistema de exposición con el mismo Modelo de utilidad Concedido CN202421971890.6 13-08-2024 CN223260027U 22-08-2025 Ye Fei
43 Equipo de procesamiento láser Patente de apariencia Concedida CN202430502595.5 08-08-2024 CN309288976S 13-05-2025 Zhang Liang
44 Método y dispositivo para desblur de imágenes de objetivos de litografía, modelo de desblur y máquina de litografía Patente de invención Publicada CN202411056926.2 02-08-2024 CN118840287A 25-10-2024 Feng Haochuan, Zheng Chao, Wang Chenyang
45 Equipo de litografía de escritura directa y método de control de exposición Patente de invención Concedida, publicada CN202411056139.8 02-08-2024 CN118884780B 16-09-2025 Zhang Min, Dai Xiaolin, Wu Shaodong
46 Equipo de procesamiento láser con dispositivo de cámara visual Modelo de utilidad Concedido CN202421856554.7 01-08-2024 CN223418627U 10-10-2025 Zhang Liang, Dong Shuai
47 Módulo óptico de extensión y sistema óptico con el mismo Patente de invención Concedida, publicada CN202410988612.X 23-07-2024 CN118688972B 26-09-2025 Qu Lujie, Cai Yinyin, Cheng Gang, Zhao Meiyun
48 Módulo óptico de extensión y sistema óptico con el mismo Patente de invención Concedida, publicada CN202410988613.4 23-07-2024 CN118707743B 07-11-2025 Zhao Meiyun, Qu Lujie, Cai Yinyin, Cheng Gang
49 Sistema y método de protección de seguridad para litografía de escritura directa Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202410699512.5 31-05-2024 CN118466111A 09-08-2024 Tong Yu, Zhu Huimin, Zhou Hu
50 Método de control en bucle cerrado de energía de la superficie de exposición para equipos LDI Patente de invención En revisión sustantiva, publicada CN202410699502.1 31-05-2024 CN118466110A 09-08-2024 Xie Jiachao, Zhu Huimin, Li Zhiqiang, Guo Hongli, Zhan Yali

Aviso: El mercado tiene riesgos, la inversión debe ser cautelosa. Este artículo es publicado automáticamente por un modelo de IA basado en bases de datos de terceros y no representa la opinión de Sina Finanzas. La información aquí contenida es solo para referencia y no constituye asesoramiento de inversión personal. Para discrepancias, consulte los anuncios oficiales. Para consultas, contacte a biz@staff.sina.com.cn.

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