中国于 7 月 27 日开始生产 DUV 光刻机
一家由国家支持的中国公司于 7 月 27 日开始制造国产开发的浸没式深紫外(DUV)光刻机。该类机器是关键工具,用于在硅晶圆上刻蚀图案,从而制造出为从智能手机到比特币挖矿矿机等设备供电的芯片。该进展发生在持续的美中科技紧张局势以及针对先进半导体设备的出口管制措施背景之下。 中国计划在 2026 年部署 5 台 DUV 设备,2027 年为 20 台 中国的首批量产规模约为 5 台,预计在 2026 年交付,并在 2027 年扩大至 20 台。据预测,ASML 仅在 2026 年就将生产约 130 台 DUV 浸没式设备。中国的产出占 ASML 预计 2026 年产量的不到 4%。 中芯国际、华虹、长鑫存储被指定为首批接收方 首批发货对象被指定为中国最大的芯片制造商。中芯国际、华虹半导体以及长鑫存储科技均计划接收相关设备。 2025 年中国占 ASML 收入 33% 2025 年,中国占 ASML 总收入的 33%。即便在此次产能发展之前,该比例也已预计将在 2026 年下降至约 20%。 荷兰在 2026 年 5 月对美国 MATCH 法案提出反对 MATCH 法案是美国立法,旨在进一
Lucas Bennett ·07-28 20:24
