"Світло Інвестиції: напівпровідники та хвиля ШІ стимулюють нові фторовмісні матеріали до періоду швидкого зростання."

Глибокий приплив TechFlow повідомляє, що 5 липня дослідницький звіт Everbright Securities вважає, що провідні китайські компанії з фторхімії прискорюють розгортання фторовмісних нових матеріалів, зосереджуючись на створенні другої кривої зростання. У галузі напівпровідників високочиста (наприклад, рівень G5) електронна фтористоводнева кислота, як незамінний ключовий вологий хімічний реагент для виробництва чіпів, довгий час монополізувалася японськими та американськими компаніями. Останніми роками вітчизняні підприємства завдяки перевагам інтегрованого промислового ланцюга прорвали технологічний бар'єр надчистої високої чистоти, успішно пройшли сувору сертифікацію провідних світових та місцевих напівпровідникових фабрик (foundries) і вийшли на етап масштабного виробництва.

Водночас стрімке зростання обчислювальної потужності ШІ, HPC та надвеликих центрів обробки даних призводить до підвищення теплової щільності центрів обробки даних. Традиційні рішення повітряного охолодження в сценаріях з високою потужністю поступово стають недостатніми, і рідинне охолодження стає обов'язковим вибором для ефективного відведення тепла. Компанії фторхімічної галузі, відповідаючи на тенденцію ефективного тепловідведення, активно розгортають високоефективні фторовмісні охолоджуючі рідини, такі як перфторполіефіри (PFPE), які завдяки своїм ізоляційним, негорючим та чудовим терморегулюючим властивостям займають незамінне місце в імерсійному рідинному охолодженні та інших сценаріях з високою безпекою та високою потужністю. Фторовмісні нові матеріали сприяють глибокій трансформації фторхімічних підприємств у бік високотехнологічних бар'єрів та високої доданої вартості. (Jin Shi)