Уряд США інвестував у xLight, яку очолює колишній CEO Intel: мета — похитнути гегемонію літографічних машин ASML, планується запросити TSMC та Micron до участі в інвестиціях.

Колишній генеральний директор Intel, Пет Гелсінгер (Pat Gelsinger), став виконавчим головою американського стартапу xLight, який веде переговори про новий раунд фінансування на $350 млн під керівництвом Boardman Bay та Bain Capital; уряд США вже отримав прямі акції xLight через CHIPS Act.
(Попередній підсумок: TSMC «сказав, що це надто дорого» і до 2029 року відмовляється купувати новітні літографічні машини ASML — що за цим стоїть?)
(Додатковий контекст: Трамп: Apple шукатиме Intel для виробництва чіпів! INTC зростає на 6,6% на передринкових торгах)

Зміст статті

Toggle

• Чому тут Гелсінгер
• Вільний електронний лазер: принципова різниця між технологічним шляхом xLight і поточним підходом ASML
• Плівка, фоторезист і нерозв’язані проблеми матеріалознавства

Менш ніж через рік після звільнення з ради директорів Intel Пет Гелсінгер (Pat Gelsinger) з’явився на посаді голови іншого каліфорнійського стартапу, чиє завдання — похитнути найглибший рів обороноздатності світової напівпровідникової індустрії: повну монополію нідерландської ASML на літографічні системи з екстремальним ультрафіолетом (EUV).

І що незвично, цього разу федеральний уряд США безпосередньо входить до капіталу.

У грудні 2025 року Міністерство торгівлі США підписало лист про наміри, зобов’язавшись інвестувати до $150 млн у xLight через CHIPS and Science Act в обмін на прямі акції компанії. Міністр торгівлі США заявив: «Протягом надто довгого часу Америка поступалася передовими позиціями в літографії іншим. Під керівництвом президента Трампа цим дням настав кінець.»

Це перша угода з акціонерним капіталом, укладена новоствореним офісом досліджень і розробок CHIPS адміністрації Трампа. Зараз xLight веде переговори з Boardman Bay Capital Management і Bain Capital, плануючи залучити ще $350 млн, і запрошує до участі ASML, TSMC, Intel і Micron.

Чому тут Гелсінгер

EUV-літографія — це ключовий процес для виробництва найсучасніших чіпів. Простіше кажучи, на кремнієвій пластині за допомогою ультрафіолетового світла з дуже короткою довжиною хвилі «друкуються» мікроскопічні схеми, невидимі неозброєним оком — саме так виготовляють високопродуктивні процесори для AI-серверів. Наразі лише одна компанія у світі може виробляти такі системи: нідерландська ASML.

Гелсінгер добре знайомий з напівпровідниковою політикою. Він пропрацював в Intel десятиліттями і був одним із ключових прихильників ухвалення CHIPS Act у 2022 році. У березні 2025 року він офіційно приєднався до xLight як виконавчий голова; його венчурна компанія Playground Global також очолила раунд B на $40 млн у xLight у липні 2025 року.

Разом із федеральним фінансуванням xLight на сьогодні залучив близько $200 млн, а також отримав незобов’язуючі обіцянки проектного фінансування на суму до $4,2 млрд для майбутнього будівництва заводів.

Вільний електронний лазер: принципова різниця між технологічним шляхом xLight і поточним підходом ASML

Поточне джерело EUV-світла від ASML називається «лазерно-індукована плазма». Простіше кажучи, потужний лазер десятки тисяч разів на секунду бомбардує крихітні краплі розплавленого олова; краплі переходять у плазмовий стан і випромінюють EUV-світло. Цей метод працює, але структурно складний, і ціна найновішої системи сягає $300–400 млн.

xLight йде зовсім іншим шляхом: «вільний електронний лазер». Простіше кажучи, невеликий прискорювач частинок розганяє електрони майже до швидкості світла, а потім ці швидкісні електрони проходять через ряд почергово розташованих магнітів; електрони рухаються зигзагами в магнітному полі, випромінюючи потужне EUV-світло.

Не потрібно бомбардувати краплі олова. xLight стверджує, що цей метод може досягти довжини хвилі до 2 нм, тоді як поточні системи ASML використовують 13,5 нм; чим коротша довжина хвилі, тим дрібніші схеми можна друкувати, і тим більше транзисторів можна розмістити на одному чіпі. xLight також стверджує, що це значно знизить капітальні та операційні витрати на виробництво передових AI-чіпів.

Проте варто зазначити: xLight не планує безпосередньо кидати виклик бізнесу ASML з виробництва систем; натомість він хоче продавати своє джерело світла як «компонент» до систем ASML, позиціонуючи себе як постачальник, а не конкурент. Генеральний директор ASML, Крістоф Фуке (Christophe Fouquet), публічно підтвердив: «ASML співпрацює з xLight для технологічної верифікації.»

xLight будує свій перший прототипний завод у парку Albany NanoTech у штаті Нью-Йорк, з метою запустити перше функціональне джерело світла до 2028 року. До цього ще більше двох років.

Плівка, фоторезист і нерозв’язані проблеми матеріалознавства

Хоча довжина хвилі 2 нм звучить як стрибкоподібний прорив, до перевірки серійного виробництва ще далеко. На напівпровідниковому форумі SemiWiki Фред Чен (Fred Chen), який має десятиліття досвіду в галузі напівпровідників, прямо вказує на ключову суперечність: «Вища потужність EUV, безумовно, несумісна з плівкою, і, ймовірно, також стане несумісною з фоторезистом.»

Плівка (pellicle) — це надтонка захисна мембрана, наклеєна на фотошаблон; простіше кажучи, вона запобігає попаданню пилу на фотошаблон, який міг би зіпсувати кожну пластину; без неї вихід придатних виробів впаде. Фоторезист (resist) — це світлочутливе покриття, нанесене на пластину; простіше кажучи, воно подібне до фотоплівки: там, де потрапляє EUV-світло, відбувається хімічна реакція, і так переноситься візерунок схеми. Якщо потужність занадто висока, плівка може прогорати, а хімічні реакції фоторезисту можуть вийти з-під контролю. На ці дві проблеми наразі немає відомих публічних рішень.

Уся бізнес-модель xLight побудована на передумові, що «довжина хвилі 2 нм може забезпечити високу потужність при збереженні сумісності матеріалів». Ця передумова поки що є лише твердженням, а не перевіреним фактом. Але те, що уряд США входить у капітал, Гелсінгер додає свій авторитет і політичний капітал, і Bain Capital готується слідувати — це сигнали з боку капіталу.