何年も前に半導体投資研究をしていたとき、当時はウェーハ工場の調査や国産化率の要求があり、ウェーハ工場は純国産設備のラインを引くこともあったが、実際に生産しているのは海外の設備に頼っていた。

EUVについては、現在地球上の工業の奇跡と工程の極限の製品として位置付けられる。国内が追いつくには、楽観的に見積もっても8〜10年は非常に楽観的だ。なぜなら、中国には蔡司や通快がないからだ。ドイツのこの二つの工業巨頭こそがEUVの背後の支柱であり、無冠の王だ。
さらには高端のマスクも、国内ではほぼ空白状態だ。なぜ8〜10年が楽観的といえるかというと、もしASMLの道筋をたどるなら、ほぼ望みは薄いからだ。だから国内では、華為を代表とする企業も含めて、常に追い越しを狙った試みを続けている。例えば光源の工夫や、あるいは直接チップ構造を変えて露光要求を下げる方法、さらには一時期産業界で熱議されたナノインプリントなどもある。
たとえ追い越しに成功しても、これらの技術が成熟し実用化されるには、やはり8〜10年かかるだろう。
国内の多くの半導体企業の中で、半導体技術の追い越しに成功した例は長江存儲だけだ。