11-10-2026 03.04.24
ASML dan Zeiss Ungkap Teknologi Litografi Chip Generasi Berikutnya, Hyper-NA, yang Menargetkan Fitur Berukuran 5 nm dalam 10 Tahun
Menurut makalah yang telah ditelaah sejawat dan diterbitkan bulan ini di Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology, ASML dan mitra optiknya, Zeiss, mengumumkan bahwa Hyper NA, peralatan litografi ultraviolet ekstrem (EUV) generasi berikutnya, dapat siap dalam waktu sekitar 10 tahun. Teknologi ini akan menghasilkan fitur sirkuit sekecil 5 nanometer, atau lebih dari sepertiga lebih kecil dibandingkan sistem EUV High NA saat ini. Makalah tersebut menyebutkan bahwa meskipun High NA su