2026-10-15 03:13:08
ASML High-NA EUV 邁向量產,英特爾、三星與台積電瞄準 2028–2030 年部署
根據 ASML 第三季財報電話會議,High-NA EUV 微影設備正從開發階段轉向量產,客戶時程為下一階段設備投資提供指引。 英特爾已使用 High-NA EUV 曝光超過 100 萬片晶圓,效能達到或超越低 NA 同類設備;三星計劃在 2028 年大規模部署 High-NA EUV,而台積電則以約 2030 年應用於先進邏輯製程為目標。ASML 報告第三季淨銷售額約為 117 億歐元,毛利率為 57.5%,淨利潤約為 50 億歐元。該公司將全年營收指引上調至 440–450 億歐元,並表示預計到 2028 年,低 NA EUV 與浸潤式 DUV 的需求增長將超過產能增幅。