Замовлення, зумовлені ШІ, повністю завантажують виробничі потужності ASML для систем High NA EUV до 2027 року
За даними Reuters, 14 Вересня ASML заявила, що попит, зумовлений ШІ, повністю сформував портфель замовлень на літографічні системи High NA з використанням екстремального ультрафіолету (EUV) до 2027 року, а вартість кожної системи становить близько 200 мільйонів доларів. Intel, перший клієнт, який запровадив High NA, підтвердила, що системи відповідають вимогам щодо пропускної здатності та надійності після обробки понад 1 мільйона пластин. TSMC планує розпочати виробництво з використанням High NA
GateNews·09-15 04:01
