科学者がチップの積層における新しい製造プロセスを開発 高帯域幅メモリの集積密度を2倍に高める

火星财经のニュースによると、韓国の産業技術研究所と浦項工科大学の科学者が、新しい製造プロセスを開発した。これにより、10枚余りの超薄型半導体チップを安定して積層でき、商用の高帯域幅メモリ(HBM)の約4倍の集積密度を実現した。このブレークスルーは、人工知能(AI)が直面するメモリのボトルネックの緩和が期待されている。関連論文は新たに発行された『Engineering Findings(エンジニアリング成果)』誌に掲載された。(財聯社)
原文表示
このページには第三者のコンテンツが含まれている場合があり、情報提供のみを目的としております(表明・保証をするものではありません)。Gateによる見解の支持や、金融・専門的な助言とみなされるべきものではありません。詳細については免責事項をご覧ください。
  • 報酬
  • コメント
  • リポスト
  • 共有
コメント
コメントを追加
コメントを追加
コメントなし