Intel áp dụng công nghệ quang khắc EUV độ phân giải cao thế hệ tiếp theo High NA của ASML cho sản xuất Panther Lake
Theo ASML, Intel đã bắt đầu sử dụng thiết bị khắc quang EUV High Numerical Aperture (High NA) thế hệ tiếp theo của ASML để sản xuất bộ xử lý cho máy tính xách tay Panther Lake vào thứ Ba (ngày 15 tháng 7). Động thái này nối tiếp các đợt thử nghiệm thí điểm bắt đầu từ năm 2024, với việc Intel hiện triển khai công cụ tiên tiến trong sản xuất quy mô lớn nhằm nâng cao hiệu quả sản xuất.
GateNews·07-15 05:12
