2026-10-16 14:21:48
受 AI 芯片需求推动,ASML 目标到 2028 年每年交付超过 110 台 EUV 设备
根据 ASML 10 月 14 日发布的业绩公告,这家荷兰半导体设备制造商的目标是到 2028 年将极紫外光刻机(EUV)年产能提升至 110 台以上,高于 2026 年约 65 台的水平。公司计划在 2027 年将制造产能提升 30%,使年产量达到约 85 台,随后在 2028 年再提升 30%。首席执行官 Christophe Fouquet 表示,客户已经在要求于 2029 年和 2030 年交付设备,这反映出市场对 AI 基础设施投资的预期持续强劲。ASML 的产能已成为关键瓶颈,因为该公司仍是唯一一家商业化生产 EUV 光刻系统的制造商,而这类系统对于生产先进制程芯片至关重要。台积电等企业使用这类系统生产芯片,并为英伟达和 AMD 供货。