市場傳出中國已量產自主研發的浸潤式 DUV 曝光機，帶動 ASML 股價單日重挫逾 8%。不過摩根大通分析師認為這是反應過度，ASML 在技術與量產規模上仍維持明顯領先。 （背景補充：韓股又熔斷、日經跳水 4%、台股大跌 1800 點失守 42k，權值股大逃殺）
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市場近日傳出中國已開始量產自主研發的浸潤式深紫外光（DUV）曝光機，訊息一出，ASML 在荷蘭掛牌股價 27 日重挫超過 8%，帶動整條半導體機台供應鏈重挫。
DUV 機台用於把電路圖案曝光至矽晶圓，在美國出口管制之下，中國晶片廠目前無法取得最先進的光刻工具，只能進口較舊型機台；一旦真能自主量產，等於在美國設下的封鎖線上，鑿出一道缺口。
這波訊息源自《The Information》，指中國一家具有官方背景、未具名的企業已開始生產 DUV 機台，預計今年交付 5 台，明年產能提升至 20 台。儘管相關技術在效能和可靠性方面仍待進一步測試，但長期而言或挑戰 ASML 在中國市場的地位。
動區查證後，這家企業指的應該是 2022 年成立的上海宇量昇科技，總部位於上海浦東新區，國資控股，註冊資本人民幣 10 億元，股權由深圳市新凱來技術與創科微（上海）技術各持 50%，並與華為、上海微電子及清華大學展開技術合作。
首批機台今年料將交付中芯國際、華虹半導體、長鑫存儲（CXMT）三家中國晶圓廠，其中中芯國際已在測試首台國產浸潤式 DUV。技術規格上，這款機台鎖定 28 奈米單次曝光；若搭配多重曝光，理論上可做到 7 奈米甚至 5 奈米。所謂多重曝光，簡單來說就是，同一層電路分成好幾次曝光疊出來，步驟變多，成本與良率的代價也更高，能做到不等於做得起。
極紫外光（EUV）機台是目前業界公認、唯一能生產最先進製程晶片的曝光機台，全球僅 ASML 一家能造，且早已被列入對中禁售名單。DUV 雖然是舊一代技術，卻是中國晶片廠在禁令之下唯一還能碰到的最先進光刻工具；而隨著美國考慮進一步收緊對中 DUV 機台的出口與維修服務限制，北京加速自研機台，等於是提前替供應鏈斷炊做準備，把命脈掌握在自己手裡，而不是賭美方會不會鬆手。
多家外媒報導評估，中國機台在產出速度、對準精度與長期可靠度上，仍落後業界頂尖機台一個世代，規格落差甚至被估算為十餘年。機台大部分零件來自中國供應商，但關鍵零件仍依賴日本，本地零件延遲交貨，也拖慢了今年的生產進度。中國同步自研極紫外光機台，但仍停留在原型機階段，距離量產還有相當長的路要走。
ASML 公司數據顯示，其一年可生產約 130 台 DUV 浸潤式曝光機，規劃 2027 年產能再提高 30%、2028 年視需求再增加 30%，以因應 AI 基礎建設帶來的需求成長。上海宇量昇今年目標 5 台、明年 20 台，產能差距超過 26 倍。
摩根大通分析師 Sandeep Deshpande 認為，這波股價下殺是反應過度。
他指出，中國多年來一直生產較低階的曝光機台，但至今未對 ASML 在前段晶圓製造市場的市占率造成實質影響；ASML 在技術能力與量產規模上仍維持明顯領先，這波賣壓偏向情緒驅動，而非基本面惡化。不過他也坦言，中國半導體自主化的趨勢日益穩固，長期恐提高 ASML 中國營收面臨的風險。
同一天，美光、SK 海力士 ADR、SanDisk 等記憶體股同步下殺，今日台股一度大跌逾 1,800 點、韓股再次熔斷，一點點風吹草動都會加劇市場恐慌情緒。
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中國傳量產自研 DUV 曝光機，會改寫全球半導體格局？摩根大通：市場反應過度
市場傳出中國已量產自主研發的浸潤式 DUV 曝光機，帶動 ASML 股價單日重挫逾 8%。不過摩根大通分析師認為這是反應過度，ASML 在技術與量產規模上仍維持明顯領先。
（背景補充：韓股又熔斷、日經跳水 4%、台股大跌 1800 點失守 42k，權值股大逃殺）
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市場近日傳出中國已開始量產自主研發的浸潤式深紫外光（DUV）曝光機，訊息一出，ASML 在荷蘭掛牌股價 27 日重挫超過 8%，帶動整條半導體機台供應鏈重挫。
DUV 機台用於把電路圖案曝光至矽晶圓，在美國出口管制之下，中國晶片廠目前無法取得最先進的光刻工具，只能進口較舊型機台；一旦真能自主量產，等於在美國設下的封鎖線上，鑿出一道缺口。
一家四年新創，做出了什麼？
這波訊息源自《The Information》，指中國一家具有官方背景、未具名的企業已開始生產 DUV 機台，預計今年交付 5 台，明年產能提升至 20 台。儘管相關技術在效能和可靠性方面仍待進一步測試，但長期而言或挑戰 ASML 在中國市場的地位。
動區查證後，這家企業指的應該是 2022 年成立的上海宇量昇科技，總部位於上海浦東新區，國資控股，註冊資本人民幣 10 億元，股權由深圳市新凱來技術與創科微（上海）技術各持 50%，並與華為、上海微電子及清華大學展開技術合作。
首批機台今年料將交付中芯國際、華虹半導體、長鑫存儲（CXMT）三家中國晶圓廠，其中中芯國際已在測試首台國產浸潤式 DUV。技術規格上，這款機台鎖定 28 奈米單次曝光；若搭配多重曝光，理論上可做到 7 奈米甚至 5 奈米。所謂多重曝光，簡單來說就是，同一層電路分成好幾次曝光疊出來，步驟變多，成本與良率的代價也更高，能做到不等於做得起。
極紫外光（EUV）機台是目前業界公認、唯一能生產最先進製程晶片的曝光機台，全球僅 ASML 一家能造，且早已被列入對中禁售名單。DUV 雖然是舊一代技術，卻是中國晶片廠在禁令之下唯一還能碰到的最先進光刻工具；而隨著美國考慮進一步收緊對中 DUV 機台的出口與維修服務限制，北京加速自研機台，等於是提前替供應鏈斷炊做準備，把命脈掌握在自己手裡，而不是賭美方會不會鬆手。
5 台，還是 130 台？
多家外媒報導評估，中國機台在產出速度、對準精度與長期可靠度上，仍落後業界頂尖機台一個世代，規格落差甚至被估算為十餘年。機台大部分零件來自中國供應商，但關鍵零件仍依賴日本，本地零件延遲交貨，也拖慢了今年的生產進度。中國同步自研極紫外光機台，但仍停留在原型機階段，距離量產還有相當長的路要走。
ASML 公司數據顯示，其一年可生產約 130 台 DUV 浸潤式曝光機，規劃 2027 年產能再提高 30%、2028 年視需求再增加 30%，以因應 AI 基礎建設帶來的需求成長。上海宇量昇今年目標 5 台、明年 20 台，產能差距超過 26 倍。
小摩喊「反應過度」
摩根大通分析師 Sandeep Deshpande 認為，這波股價下殺是反應過度。
他指出，中國多年來一直生產較低階的曝光機台，但至今未對 ASML 在前段晶圓製造市場的市占率造成實質影響；ASML 在技術能力與量產規模上仍維持明顯領先，這波賣壓偏向情緒驅動，而非基本面惡化。不過他也坦言，中國半導體自主化的趨勢日益穩固，長期恐提高 ASML 中國營收面臨的風險。
同一天，美光、SK 海力士 ADR、SanDisk 等記憶體股同步下殺，今日台股一度大跌逾 1,800 點、韓股再次熔斷，一點點風吹草動都會加劇市場恐慌情緒。