VỪA CÓ: Intel đang cân nhắc kiến trúc năng lượng hai mặt cho tiến trình 1.4nm để đẩy nhanh lợi thế mật độ so với TSMC/Samsung; nhắm đến việc đưa bước M0 từ ~28nm tiến về 21nm trong 14A2 trong khi giữ năng lượng mặt sau làm cốt lõi. $INTC

Xem bản gốc
post-image
Trang này có thể chứa nội dung của bên thứ ba, được cung cấp chỉ nhằm mục đích thông tin (không phải là tuyên bố/bảo đảm) và không được coi là sự chứng thực cho quan điểm của Gate hoặc là lời khuyên về tài chính hoặc chuyên môn. Xem Tuyên bố từ chối trách nhiệm để biết chi tiết.
  • Phần thưởng
  • Bình luận
  • Đăng lại
  • Retweed
Bình luận
Thêm một bình luận
Thêm một bình luận
Không có bình luận
  • Đã ghim