A Samsung Electronics está a testar as máscaras em branco EUV domésticas da S&S Tech (101490) no seu ambiente de produção em massa na fundição de 4nm. Isto marca a primeira vez que estas máscaras foram introduzidas numa linha de produção real

O objetivo é reduzir a dependência da Hoya do Japão, fortalecer a resiliência da cadeia de abastecimento e obter mais poder de fixação de preços
A Samsung tem, alegadamente, fornecido feedback à S&S Tech para melhorar a qualidade, enquanto a S&S Tech já investiu pesadamente em equipamentos de inspeção e numa nova fábrica em Yongin para apoiar o esforço. Se a localização for bem-sucedida, a Samsung poderá poupar dezenas de bilhões de won anualmente e encurtar os tempos de entrega, embora os pedidos de produção em massa ainda possam levar de seis meses a mais de um ano
"Entendo que as máscaras da S&S Tech estão a ser usadas no processo EUV, que é relativamente menos exigente mesmo dentro do nó de 4nm, disse uma fonte do setor. O fato de estarem a testar amostras numa linha de produção em massa real mostra um forte compromisso com a localização." A fonte acrescentou que a Samsung pretende reduzir a sua dependência da Hoya do Japão e, com o tempo, garantir maior poder de fixação de preços
Uma máscara em branco é o material base para as máscaras fotográficas usadas para transferir padrões de circuitos para os wafers durante a fabricação de semicondutores. Geralmente, é feita depositando uma película fina de metal ou composto sobre um substrato de vidro de alta pureza. Os fabricantes de chips então gravam padrões de circuitos na máscara em branco para criar a máscara fotográfica final
As máscaras em branco EUV diferem significativamente dos produtos tradicionais de ultravioleta profundo, ou DUV. As máscaras em branco DUV são transmissivas, o que significa que a luz ultravioleta passa através do substrato para formar padrões no wafer. As máscaras em branco EUV, por outro lado, são refletivas, ou seja, a luz ultravioleta extrema é refletida em vez de transmitida. São feitas alternando dezenas de camadas, cerca de 40 pares, de molibdénio e silício sobre um substrato de vidro. Devido ao comprimento de onda curto do EUV, mesmo defeitos extremamente pequenos podem ser críticos, o que torna a fabricação e a inspeção muito mais exigentes
No início do ano passado, a S&S Tech investiu mais de 40 mil milhões de won em equipamentos de inspeção da Lasertec do Japão para a sua linha de máscaras em branco EUV. O equipamento foi alegadamente instalado na nova fábrica de Yongin, que a empresa concluiu em outubro do ano passado
A Samsung Electronics atualmente importa a maior parte das suas máscaras em branco EUV da Hoya do Japão. No entanto, enfrentou várias vezes problemas de aquisição devido a interrupções, como terremotos no Japão. Embora a Hoya tenha expandido a produção em Singapura para resolver esses problemas, as preocupações na indústria de semicondutores permaneceram
As máscaras em branco EUV custam dezenas de milhões de won por folha, enquanto versões de alta gama podem exceder os 100 milhões de won. A Samsung espera, alegadamente, poupar dezenas de bilhões de won por ano, juntamente com tempos de entrega mais curtos, se a S&S Tech conseguir localizar com sucesso o fornecimento
"Entendo que a S&S Tech está agora a trabalhar em melhorias para reduzir a geração de partículas após receber feedback da Samsung Electronics, disse um responsável do setor. Pode levar de seis meses a mais de um ano antes de serem emitidos os pedidos de produção em massa."