Critini分析师:三星和SK海力士重新评估HBM混合键合采用时机,技术转型可能延迟

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7月6日,Critini Research分析师Jukan指出,三星和SK海力士正在重新评估HBM中采用混合键合的时间点,可能到HBM5也不会应用。核心原因有两个:一是JEDEC正在讨论将HBM5的厚度标准放宽至最大约1000μm(HBM3E为720μm,HBM4已放宽至775μm)。标准放宽后,混合键合无凸点带来的减薄优势不再迫切;二是散热有更简单的替代方案——三星开发了Heat Path Block,SK海力士推出了iHBM(ICE HBM),两者都是在HBM旁边放置独立散热器件,计划从HBM5开始应用,技术难度更低且商业化更稳定。此外,英伟达等主要客户目前对超过16层的高堆叠产品并无迫切需求,12层产品在HBM4E阶段可能仍是主流。不过,混合键合的研发并未停滞。目前HBM4的I/O数量已翻倍至2048,现有TC热压键合工艺接近极限;若未来HBM5E阶段I/O数量再翻倍至4096,凸点的横向扩散将使TC键合难以支撑,必须采用铜直接键合的混合键合以实现更高密度连接。Jukan评估认为,短期内因厚度和散热的更简单解决方案,混合键合不会大规模部署;但中长期来看,当I/O密度再次爆发时,它仍是必然方向。这将直接影响Besi等混合键合设备核心供应商的市场预期。技术路线的延迟意味着相关设备订单放量的时间表需要重新评估。
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