El gobierno de EE.UU. invierte en xLight, dirigida por el ex CEO de Intel: el objetivo es desafiar el dominio de las máquinas de litografía de ASML, y planea invitar a TSMC y Micron a participar en la inversión.

El ex CEO de Intel, Pat Gelsinger, asume como presidente ejecutivo de la startup estadounidense xLight, que está negociando una nueva ronda de financiación de 350 millones de dólares liderada por Boardman Bay y Bain Capital; el gobierno de EE. UU. ya ha adquirido acciones directas de xLight a través de la Ley CHIPS.
(Nota previa: TSMC "dice que es demasiado caro" y se niega a comprar la última máquina de litografía de ASML antes de 2029, ¿qué hay detrás de esto?)
(Complemento: Trump: Apple buscará que Intel fabrique chips; las acciones de INTC suben un 6.6% en el mercado previo)

Índice

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• ¿Por qué está Gelsinger aquí?
• Láser de electrones libres: la diferencia fundamental entre la ruta tecnológica de xLight y el enfoque actual de ASML
• Películas, fotorresistentes y los desafíos de ciencia de materiales aún no resueltos

Menos de un año después de ser destituido por la junta directiva de Intel, Pat Gelsinger ya ocupa la presidencia de otra startup en California, cuya misión es sacudir el foso más profundo de la industria global de chips: el monopolio absoluto de la holandesa ASML sobre las máquinas de litografía ultravioleta extrema (EUV).

Y lo inusual es que el gobierno federal de EE. UU. ahora invierte directamente.

En diciembre de 2025, el Departamento de Comercio de EE. UU. firmó una carta de intención comprometiéndose a invertir hasta 150 millones de dólares en xLight a través de la Ley CHIPS y Ciencia, obteniendo así una participación directa en la empresa. La secretaria de Comercio dijo en un comunicado: "Durante demasiado tiempo, EE. UU. ha cedido la vanguardia de la litografía avanzada a otros. Bajo el liderazgo del presidente Trump, esos días terminaron".

Esta es la primera transacción de capital de la nueva Oficina de I+D de CHIPS establecida por la administración Trump. Actualmente, xLight está en conversaciones con Boardman Bay Capital Management y Bain Capital para recaudar otros 350 millones de dólares, e invitará a ASML, TSMC, Intel y Micron a participar.

¿Por qué está Gelsinger aquí?

La litografía EUV es un proceso clave para fabricar los chips más avanzados. En términos simples, se trata de "imprimir" circuitos extremadamente finos, invisibles a simple vista, en una oblea de silicio utilizando luz ultravioleta de longitud de onda muy corta; los procesadores de alto rendimiento en los servidores de IA se crean así. Actualmente, solo una empresa en el mundo puede producir estas máquinas: la holandesa ASML.

Gelsinger no es ajeno a las políticas de semiconductores. Pasó décadas en Intel y fue uno de los impulsores clave para que la Ley CHIPS se aprobara en 2022. En marzo de 2025, se unió formalmente a xLight como presidente ejecutivo; su firma de capital de riesgo, Playground Global, también lideró la ronda Serie B de 40 millones de dólares de xLight en julio de 2025.

Junto con los fondos federales, xLight ha recaudado hasta ahora aproximadamente 200 millones de dólares, además de compromisos de financiación de proyectos no vinculantes de hasta 4,200 millones de dólares para la futura construcción de plantas.

Láser de electrones libres: la diferencia fundamental entre la ruta tecnológica de xLight y el enfoque actual de ASML

La fuente de luz EUV actual de ASML se llama "plasma inducido por láser". En términos simples, se dispara un láser de alta potencia decenas de miles de veces por segundo contra diminutas gotas de estaño fundido; las gotas se convierten en plasma y emiten luz EUV. Este método funciona, pero es estructuralmente complejo, y la última generación de máquinas cuesta entre 300 y 400 millones de dólares cada una.

xLight sigue un camino completamente diferente: "láser de electrones libres". En términos simples, utiliza un pequeño acelerador de partículas para acelerar electrones casi a la velocidad de la luz, luego los hace pasar a través de una serie de imanes alternados; los electrones se mueven en zigzag en el campo magnético, emitiendo intensa luz EUV.

No es necesario bombardear gotas de estaño. xLight afirma que este método puede alcanzar longitudes de onda tan cortas como 2 nm, en comparación con los 13.5 nm de las máquinas actuales de ASML; cuanto más corta la longitud de onda, más finos los circuitos que se pueden imprimir y más transistores se pueden integrar en cada chip. xLight también afirma que esto reducirá drásticamente los costos de capital y operación para fabricar chips de IA avanzados.

Sin embargo, cabe destacar: xLight no planea desafiar directamente el negocio de máquinas de ASML, sino vender su fuente de luz como un "componente" para las máquinas de ASML, posicionándose como proveedor en lugar de competidor. El CEO de ASML, Christophe Fouquet, ha confirmado públicamente: "ASML está colaborando con xLight para la verificación técnica".

xLight está construyendo su primera planta prototipo en el parque Albany NanoTech en el estado de Nueva York, con el objetivo de tener la primera fuente de luz operativa en línea para 2028. Quedan más de dos años.

Películas, fotorresistentes y los desafíos de ciencia de materiales aún no resueltos

Sin embargo, aunque la longitud de onda de 2 nm suena como un avance revolucionario, todavía está lejos de la verificación para producción en masa. En el foro de semiconductores SemiWiki, Fred Chen, con décadas de experiencia en la industria de chips, señala directamente la contradicción central: "Una mayor potencia EUV ciertamente es incompatible con las películas de protección, y probablemente también lo será con los fotorresistentes".

La película (pellicle) es una capa de protección ultrafina que se coloca sobre la máscara; en términos simples, evita que el polvo caiga sobre la máscara y dañe cada oblea; sin ella, el rendimiento se desploma. El fotorresistente (resist) es una capa fotosensible aplicada sobre la oblea; en términos simples, es como una película fotográfica: donde incide la luz EUV, ocurre una reacción química, y así se transfiere el patrón del circuito. Si la potencia es demasiado alta, la película se quema y la reacción química del fotorresistente puede descontrolarse. Estos dos problemas no tienen solución pública conocida.

Todo el modelo de negocio de xLight se basa en la premisa de que "una longitud de onda de 2 nm puede lograr alta potencia manteniendo la compatibilidad de materiales". Esta premisa, por ahora, es solo una afirmación, no un hecho verificado. Pero la entrada de capital del gobierno de EE. UU., el respaldo de Gelsinger con su red y capital político, y la disposición de Bain Capital a seguir, son señales en el frente financiero.